[发明专利]一种基于激光直写的微纳区域液晶定向的方法及其系统

权利要求书

1.一种基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，通过激光直写系统构建微纳结构；微纳结构区域内的液晶分子实现自定向；液晶的定向源于构成微纳结构的聚合物条带侧壁上的精细结构；所述微纳区域的尺寸从微米量级一直到超衍射极限的纳米量级。

2.如权利要求1所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其包括以下步骤：

步骤1、准备微纳结构加工需要的基底材料；

步骤2、通过激光直写的方式构建微纳结构；

步骤3、对加工得到的微纳结构进行后处理；

步骤4、向构建的微纳结构中注入液晶，形成自发定向。

3.如权利要求2所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，所述微纳结构加工基于单光子激光直写技术。

4.如权利要求2所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，所述微纳结构加工基于多光子激光直写技术。

5.如权利要求3所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，所述聚合物条带侧壁上的精细结构为单束入射光形成；所述基底材料为可聚合有机物。

6.如权利要求2所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，所述液晶为可定向的向列型液晶、胆甾型液晶或手性液晶。

7.如权利要求1所述的基于激光直写的微纳区域液晶定向方法，其特征在于，所述微纳结构是一维结构、二维结构或三维结构。

8.使用上述权利要求所述方法的激光直写系统，所述系统为实现微纳结构加工所建立的光学和机械系统，其包括光源发生系统，光束参数调整系统，机械移动系统；光源发生系统发出的光束经光束参数调整系统调整至微纳结构加工的所需的光束，机械移动系统使加工光束与加工样品间发生相对位移，以加工微纳结构。

9.如权利要求8所述激光直写系统，其特征在于，所述光源发生系统为可激发材料光聚合的光束产生系统。

10.如权利要求8或9所述激光直写系统，其特征在于，所述光学参数调整系统为保证光聚合有效发生，而对光束的传播方向、强度、偏振等参数进行调整的光学器件系统。