[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

向以水平状态被工作台支承的基板的形成有图案的表面供给清洗液的清洗液供给部；

向被供给有所述清洗液的所述基板的形成有图案的表面供给挥发性溶剂，将所述基板的形成有图案的表面上的所述清洗液置换为所述挥发性溶剂的溶剂供给部；

对被供给有所述挥发性溶剂的所述基板进行加热的加热机构；和

通过对所述挥发性溶剂进行吸引并且利用所述加热机构的加热作用将所述挥发性溶剂从所述基板的表面除去，从而对所述基板的表面进行干燥的吸引干燥机构，

所述溶剂供给部将所述挥发性溶剂以液体的状态供给至所述基板的形成有图案的表面，

所述加热机构包含向所述基板的形成有图案的面照射在500nm与3000nm之间的波长具有峰值强度的光的灯，

所述吸引干燥机构具有溶剂吸引口，该溶剂吸引口是包围所述工作台的周围的呈环状的开口，

通过所述加热机构，所述基板的形成有图案的表面被加热，从而在所述基板上生成所述挥发性溶剂的气层，所述气层推压液状的溶剂，使得所述液状的溶剂变化为液珠，所述液珠能够被所述溶剂吸引口吸引。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

还包括将在所述基板的表面生成的所述挥发性溶剂的液珠吹飞除去，对所述基板的表面进行干燥的吹飞干燥机构。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：

还包括通过所述基板的旋转将在所述基板的表面生成的所述挥发性溶剂的液珠甩掉除去，对所述基板的表面进行干燥的基板旋转干燥机构。

4.一种基板处理方法，其特征在于，包括：

向以水平状态被工作台支承的基板的形成有图案的表面供给清洗液的工序；

向被供给有所述清洗液的所述基板的形成有图案的表面以液状供给挥发性溶剂，将所述基板的表面上的所述清洗液置换为所述挥发性溶剂的工序；和

通过对被供给有所述挥发性溶剂的所述基板进行加热，并且，在将具有作为包围所述工作台的周围的呈环状的开口的溶剂吸引口的吸引干燥机构安装于工作位置的状态下，使用所述吸引干燥机构来对所述基板上的所述挥发性溶剂进行吸引，将所述挥发性溶剂从所述基板的形成有图案的表面除去，从而对所述基板的表面进行加热干燥的加热干燥工序，

在所述加热干燥工序中，通过向所述基板的形成有图案的表面照射在500nm与3000nm之间的波长具有峰值强度的光而对所述基板进行加热，从而在所述基板的形成有图案的表面上生成所述挥发性溶剂的气体层，所述气体层推压液状的溶剂，使得所述液状的溶剂变化为液珠，通过所述溶剂吸引口吸引所述液珠。

5.如权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于：

在所述加热干燥工序中，将通过所述基板的加热在所述基板的表面生成的所述挥发性溶剂的液珠吹飞除去。

6.如权利要求4或5所述的基板处理方法，其特征在于：

在所述加热干燥工序中，通过所述基板的旋转将通过所述基板的加热在所述基板的表面生成的所述挥发性溶剂的液珠甩掉除去。