[发明专利]镀铜溶液及其制造和使用方法有效
申请号: | 201410097867.3 | 申请日: | 2014-03-14 |
公开(公告)号: | CN104047036B | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 罗格·伯纳兹;理查德·贝勒马尔 | 申请(专利权)人: | 麦德美乐思美国有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D7/12 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;张英 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀铜 溶液 及其 制造 使用方法 | ||
1.一种将铜电镀至基板上的方法,包括:
提供基板;和
使所述基板与含有铜离子源和导电盐的镀铜溶液接触,其中所述镀铜溶液由于基本上不含氯离子而具有1.7~3.5之间的pH,
其中所述基板是在硅太阳能电池晶片上的金属晶种层,
所述方法进一步包含选自下组的添加剂:咪唑及咪唑衍生物、噻唑及噻唑衍生物和含季氮原子的化合物。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述含季氮原子的化合物是噻唑鎓化合物或聚合物季铵化合物。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述铜离子源是硫酸铜。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述导电盐是硫酸锂。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述pH为2.3~3.0之间。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述添加剂选自下组:2-巯基咪唑、2-巯基噻唑、3-(羧甲基)苯并噻唑鎓溴化物、2-巯基-1-甲基咪唑、2-氨基噻唑和Cyastat SN。
7.一种镀铜溶液,包含:
铜离子源;和
导电盐,
其中所述镀铜溶液由于基本上不含氯离子而具有1.7~3.5的pH,
其中所述导电盐是硫酸锂,
所述镀铜溶液进一步包含选自下组的添加剂:咪唑及咪唑衍生物、噻唑及噻唑衍生物和含季氮原子的化合物。
8.根据权利要求7所述的溶液,其中所述含季氮原子的化合物是噻唑鎓化合物或聚合物季铵化合物。
9.根据权利要求7所述的溶液,其中所述铜离子源是硫酸铜。
10.根据权利要求7所述的溶液,其中所述pH为2.3~3.0。
11.根据权利要求7所述的溶液,其中所述添加剂选自下组:2-巯基咪唑,2-巯基噻唑,3-(羧甲基)苯并噻唑鎓溴化物、2-巯基-1-甲基咪唑、2-氨基噻唑和Cyastat SN。
12.一种镀铜溶液,包含:
铜离子源;和
导电盐,
其中所述镀铜溶液由于基本上不含氯离子而具有1.7~3.5的pH,
其中所述导电盐是硫酸钠,
所述镀铜溶液进一步包含选自下组的添加剂:咪唑及咪唑衍生物、噻唑及噻唑衍生物和含季氮原子的化合物。
13.根据权利要求12所述的溶液,其中所述含季氮原子的化合物是噻唑鎓化合物或聚合物季铵化合物。
14.根据权利要求12所述的溶液,其中所述铜离子源是硫酸铜。
15.根据权利要求12所述的溶液,其中所述pH为2.3~3.0。
16.根据权利要求12所述的溶液,其中所述添加剂选自下组:2-巯基咪唑,2-巯基噻唑,3-(羧甲基)苯并噻唑鎓溴化物、2-巯基-1-甲基咪唑、2-氨基噻唑和Cyastat SN。
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