[发明专利]平面衍射光学元件透镜及其制造方法

权利要求书

1.一种平面衍射光学元件透镜，包括：

基底；

第一层，所述第一层形成于所述基底上；

衍射光学元件，所述衍射光学元件形成于所述第一层上；以及

由电介质材料形成的第二层，所述第二层形成于所述第一层上，所述第二层形成于所述衍射光学元件之上，所述第二层包含平面表面，

其中，所述第二层包围所述第一层和所述第二层之间的所述衍射光学元件，并且其中，所述第一层和所述第二层包括选择为创建所述透镜的聚焦所需的变化折射率的材料。

2.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述基底是光透射的或光吸收的。

3.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述基底是硅晶片。

4.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述基底由石英、硼硅酸钠玻璃、蓝宝石、或熔融硅石形成。

5.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由光透明材料形成。

6.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由抗反射材料形成。

7.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由电介质材料形成。

8.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由二氧化钛形成。

9.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述电介质材料包括二氧化硅。

10.如权利要求1所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述平面表面是空气界面表面。

11.一种平面衍射光学元件透镜，包括：

光透射基底；

第一层，所述第一层形成于所述基底上，所述第一层由光透明材料形成；

衍射光学元件，所述衍射光学元件形成于所述第一层上；以及

由电介质材料形成的第二层，所述第二层形成于所述第一层上，所述第二层形成于所述衍射光学元件之上，所述第二层包含平面表面，所述平面表面是空气界面表面，

其中，所述第二层包围所述第一层和所述第二层之间的所述衍射光学元件，并且其中，所述第一层和所述第二层包括选择为创建所述透镜的聚焦所需的变化折射率的材料。

12.如权利要求11所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述基底是硅晶片。

13.如权利要求11所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由抗反射材料形成。

14.如权利要求11所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由电介质材料形成。

15.如权利要求11所述的平面衍射光学元件透镜，其中，所述第一层由二氧化钛形成。

16.一种用于制造平面衍射光学元件透镜的方法，所述方法包括：

提供基底；

在所述基底上沉积第一层；

在所述第一层上形成衍射光学元件；

在所述第一层上和所述衍射光学元件之上沉积由电介质材料形成的第二层；以及

对所述第二层的表面进行平面化，所述第一层和所述第二层包括选择为创建所述透镜的聚焦所需的变化折射率的材料。

17.如权利要求16所述的方法，其中，在所述第一层上形成所述衍射光学元件包括：

在所述第一层上形成多个衍射光学元件层。