[发明专利]一种配套掩模板及其蒸镀方法

权利要求书

1.一种配套掩模板，包括两种结构的掩模板，所述掩模板上设有由蒸镀孔阵列而成的掩模图案区域，所述蒸镀孔贯穿所述掩模板，其特征在于：所述蒸镀孔形状为多边形，所述两种结构的掩模板包括第一掩模板和第二掩模板，所述第一掩模板上所述蒸镀孔数量为所述第二掩模板上所述蒸镀孔数量的两倍,其中，  

所述第一掩模板上的所述蒸镀孔沿行方向和列方向以矩形阵列方式排布；

所述第二掩模板上的所述蒸镀孔沿行方向和列方向以矩形阵列方式排布，且相邻两行的所述蒸镀孔之间的距离大于所述第一掩模板上相邻两行的所述蒸镀孔之间的距离，相邻两列的所述蒸镀孔之间的距离等于所述第一掩模板上相邻两列的所述蒸镀孔之间的距离。

2.根据权利要求1所述的配套掩模板，其特征在于，所述蒸镀孔的形状为四边形或六边形或八边形。

3.根据权利要求2所述的配套掩模板，其特征在于，所述两种结构的所述掩模板上所述蒸镀孔的形状为八边形，所述八边形具有四组平行的对边，所述八边形的四组对边的边长尺寸分别为a1、 a2、 a3、 a4，其尺寸范围及相互关系为：10μm≤a1≤35μm; 10μm≤a2≤35μm; 5μm≤a3≤25μm; a3=a4；所述尺寸为a1的边所在直线垂直于尺寸为a2的边所在直线。

4.根据权利要求3所述的配套掩模板，其特征在于，所述边长为a1的一组对边的距离为b1,所述b1的尺寸范围为30μm≤b1≤60μm; 所述边长为a2的一组对边的距离为b2,所述b2的尺寸范围为30μm≤b2≤60μm。

5.根据权利要求3所述的配套掩模板，其特征在于，所述第一掩模板中相邻两行所述蒸镀孔之间的距离为L2 ，所述a2 与所述L2的关系为：a2≤L2；所述第一掩模板中相邻两列所述蒸镀孔之间的距离为L1，所述a1与所述L1的关系为：a1≤L1。

6.根据权利要求5所述的配套掩模板，其特征在于，所述第二掩模板中相邻两行所述蒸镀孔的行间距为L3，所述L2、所述b1、所述L3三者的关系为：L3=2L2+2b1。

7.根据权利要求2或3所述的配套掩模板，其特征在于，所述第一掩模板上彼此相邻的四个所述蒸镀孔围成一个虚拟蒸镀孔，所述虚拟蒸镀孔的面积大于或等于一个所述蒸镀孔的面积，所述虚拟蒸镀孔的形状与所述蒸镀孔的形状相同。

8.根据权利要求2或3所述的配套掩模板，其特征在于，所述掩模板为一体成型结构或由分立的掩模单元组合而成，所述掩模板固定于外框上。

9.一种蒸镀方法，包括使用权利要求1～8任意一项权利要求所述的配套掩模板通过真空蒸镀步骤制作OLED显示屏的有机发光层，其特征在于：OLED显示屏的蓝色子像素通过所述第一掩模板蒸镀形成，OLED显示屏的红色子像素和绿色子像素通过所述第二掩模板蒸镀形成。

10.根据权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀步骤包括所述红色子像素蒸镀步骤、所述绿色子像素蒸镀步骤、所述蓝色子像素蒸镀步骤，在每次所述子像素蒸镀步骤之前还包括对位步骤，所述对位步骤为将所述掩模板与沉积基板对位，使所述掩模板上的所述蒸镀孔与所述沉积基板的相应子像素区域相对应。