[发明专利]天麻素分子印迹聚合物及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）以天麻素为模板，将模板、功能单体、交联剂、引发剂、制孔剂按质量比为1～4:2～7:15～35:0.05～0.15:20～60加入反应釜中混合，超声脱气，然后充氮除氧，密封后于40～60℃恒温水浴聚合18～24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物；

（2）将步骤（1）得到的聚合物研磨过筛，得均匀带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，用体积分数为10%～20%的乙酸甲醇溶液洗脱，得到留有分子印迹孔穴的聚合物颗粒，真空下50～65℃烘干，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物；

其中步骤（1）所述的功能单体为烯丙基四乙酰基葡萄糖、烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖或五氟苯乙烯；所述的交联剂为N,N-二甲基二丙烯酰胺、二甲基丙烯酸乙二醇酯或二乙烯基苯；所述制孔剂为二甲基亚砜、乙腈；所述引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈。

2.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述超声脱气时间为10-15分钟，充氮除氧15分钟。

3.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，将步骤（1）得到的聚合物研磨，过200目筛。

4.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将天麻素模板分子0.97g，烯丙基四乙酰基葡萄糖1.63g，二甲基丙烯酸乙二醇酯19.00g，偶氮二异丁腈0.10g，二甲基亚砜42.00g，加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒；

（2）用体积分数为10%乙酸甲醇溶液洗脱由步骤(1)中所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。

5.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将天麻素模板分子0.99g，烯丙基四三氟乙酰基葡萄糖1.66g，二甲基丙烯酸乙二醇酯21.10g，偶氮二异戊腈0.15g，乙腈43.00g，加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒；

（2）用体积分数为12%乙酸甲醇溶液洗脱由步骤(1)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。

6.如权利要求1所述的一种天麻素分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将天麻素模板分子2.37g，五氟苯乙烯3.73g，二甲基丙烯酸乙二醇酯35.00g，偶氮二异丁腈0.13g，二甲基亚砜47.00g，加入反应釜中混合均匀，超声脱气15min，然后充氮除氧15分钟，密封后于60℃恒温水浴聚合24小时，得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物，然后将其碾磨过200目筛，即得到带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒；

（2）用体积分数为10%乙酸甲醇溶液洗脱由步骤(1)所制得的带有模板分子天麻素的分子印迹聚合物颗粒，于60℃真空干燥后，即得到除去模板的天麻素分子印迹聚合物。

7.权利要求1所述的制备方法制备得到的除去模板的天麻素分子印迹聚合物，其特征在于，所述除去模板的天麻素分子印迹聚合物具有与天麻素分子体积、结构、极性相匹配的印记位点。

8.权利要求7所述的除去模板的天麻素分子印迹聚合物在天麻素提取、分离、富集中的应用。

9.如权利要求8所述的除去模板的天麻素分子印迹聚合物在天麻素提取、分离、富集中的应用，其特征在于，将得到的天麻素分子印迹聚合物做柱层析填料装柱，然后用天麻素水提取液上柱，再用体积分数5%～15%丙酮水溶液淋洗，最后层析柱用质量浓度5%～20%的乙酸水溶液洗脱，回收洗脱液得到天麻素。