[发明专利]存储器、存储单元的读取电路及读取方法有效
| 申请号: | 201410083749.7 | 申请日: | 2014-03-07 |
| 公开(公告)号: | CN103824597B | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
| 发明(设计)人: | 杨光军;黄明永 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号: | G11C16/26 | 分类号: | G11C16/26;G11C16/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 骆苏华 |
| 地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 存储器 存储 单元 读取 电路 方法 | ||
技术领域
本发明涉及存储器技术领域,特别涉及一种存储器、存储单元的读取电路及读取方法。
背景技术
电可擦可编程只读存储器(EEPROM,Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)是一种以字节为最小修改单位、可以通过电子方式多次复写的半导体存储设备。相比可擦可编程只读存储器(EPROM,Erasable Programmable Read-Only Memory),EEPROM不需要用紫外线照射,也不需取下,就可以用特定的电压,来抹除芯片上的信息,以便写入新的数据。由于EEPROM的优秀性能以及在线上操作的便利,它被广泛用于需要经常擦除的BIOS芯片以及闪存芯片,并逐步替代部分有断电保留需要的随机存取存储器(RAM,Random Access Memory)芯片,甚至取代部分的硬盘功能,与高速RAM成为二十一世纪最常用且发展最快的两种存储技术。
图1是现有的一种EEPROM存储单元的剖面结构示意图。参考图1,所述存储单元包括:衬底100;位于所述衬底100上方的中间电极103;对称分布于所述中间电极103两侧的第一存储位和第二存储位。其中,所述第一存储位包括漏极101、第一控制栅极104以及第一浮栅105;第二存储位包括源极102、第二控制栅极106以及第二浮栅107。所述漏极101和所述源极102位于所述衬底100内部,所述第一控制栅极104、所述第一浮栅105、所述第二控制栅极106以及所述第二浮栅107位于所述衬底100上方。通常来说,采用图1所示的存储单元存储数据时,仅使用所述第一存储位和所述第二存储位中的一个存储位存储数据,另一个存储位作为备用。
多个如图1所示的存储单元呈阵列排布形成EEPROM存储阵列,每个存储单元的控制栅极、中间电极、源极以及漏极分别连接至控制栅线、字线、源线以及位线。通过对所述控制栅线、字线、源线以及位线施加不同的操作电压,实现对所述存储单元的读操作、写操作以及擦除操作。以采用所述第一存储位存储数据、所述第二存储位作为备用为例,对所述存储单元进行写操作时,即是将电子注入所述第一浮栅105,进行写操作后读出的为二进制数据“0”;对所述存储单元进行擦除操作时,即是释放所述第一浮栅105中存储的电子,进行擦除操作后读出的为二进制数据“1”。
图2是采用现有的一种读取电路对图1所示的存储单元进行读取的结构示意图。参考图2,以读取存储单元M20为例,所述存储单元M20的第一控制栅极连接第一控制栅线CG1,所述存储单元M20的第二控制栅极连接第二控制栅线CG2,所述存储单元M20的中间电极连接字线WL,所述存储单元M20的源极连接源线SL,所述存储单元M20的漏极连接位线BL。所述读取电路包括第一NMOS管N1、参考电流源Ir、电压比较器Comp、放大器A1以及第二NMOS管N2。
具体地,所述参考电流源Ir的一端适于连接所述读取电路12的供电电源Vdd,所述参考电流源Ir的另一端连接所述电压比较器Comp的第一输入端和所述第二NMOS管N2的漏极;所述电压比较器Comp的第二输入端适于输入参考电压Vr,所述电压比较器Comp的输出端适于输出所述存储单元M20存储的数据Dout;所述第二NMOS管N2的栅极连接所述放大器A1的输出端,所述第二NMOS管N2的源极连接所述放大器A1的输入端和所述第一NMOS管N1的漏极;所述第一NMOS管N1的栅极适于输入开关控制信号sel,所述第一NMOS管N1的漏极耦接所述存储单元M20的漏极,即所述第一NMOS管N1的漏极通过所述位线BL连接所述存储单元M20的漏极。
读取所述存储单元M20时,通过所述字线WL向所述存储单元M20的中间电极施加第一读取电压,通过所述第一控制栅线CG1和所述第二控制栅线CG2向所述存储单元M20的第一控制栅极和第二控制栅极施加第二读取电压,施加高电平的开关控制信号sel至所述第一NMOS管N1的栅极,控制所述第一NMOS管N1导通。所述第二NMOS管N2处于不完全截止状态,流过所述第二NMOS管N2的电流被钳位到与所述存储单元M20的电流相等。所述参考电流源Ir提供的参考电流和所述存储单元M20的电流进行比较,根据比较结果对数据节点VD进行充电或放电,升高或降低所述数据节点VD的电压,所述电压比较器Comp根据所述数据节点VD的电压和所述参考电压Vr的比较结果输出数据Dout为“1”或“0”。
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