[发明专利]一种彩绘汝瓷的烧制方法无效

专利信息
申请号: 201410083175.3 申请日: 2014-03-10
公开(公告)号: CN103896628A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 范晨雨;王振芳;范随州 申请(专利权)人: 王振芳
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85;C04B41/89
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 苗强
地址: 467500 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 彩绘 烧制 方法
【权利要求书】:

1.一种彩绘汝瓷的烧制方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)制作素坯,然后在素坯上施釉并预留下不施釉的彩绘区域,备用;

2)将步骤1)中预留有不施釉彩绘区域的素坯在1260-1280℃的条件下烧结15-16h后得到基体,备用;

3)使用低温颜料在基体上的彩绘区域内作画,作画完成后在600-800℃的条件下烧制4-5h后冷却即得到成品。

2.根据权利要求1所述的一种彩绘汝瓷的烧制方法,其特征在于:在步骤3)使用低温颜料作画之前,预先在彩绘区域均匀涂刷辅助剂,辅助剂为60-80目的松香粉、60-80目的氧化铁粉与酒精形成的混合物,且每100mL酒精中含有20-30g松香粉、15-20g氧化铁粉。

3.根据权利要求2所述的一种彩绘汝瓷的烧制方法,其特征在于:所述辅助剂中还含有10-15g细度为60-80目的氧化镁粉或二氧化硅粉。

4.根据权利要求1所述的一种彩绘汝瓷的烧制方法,其特征在于:所述步骤1)中素坯是泥料制成的坯体经过700-900℃烧制3.5-4.5h后得到。

5.根据权利要求1所述的一种彩绘汝瓷的烧制方法,其特征在于:所述步骤3)中作画后的基体进行烧制时的具体操作为:先将窑温在40min内升至450-500℃,并保持在该温度10min,然后再将窑温在30min内升至600-800℃并在该温度下持续烧制完预设时间,然后使其在窑内燃料燃烧后形成的二氧化碳氛围中自然冷却即得到成品。

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