[发明专利]磁体用调节机构

说明书

技术领域

本发明涉及磁控溅射镀膜领域，尤其涉及一种适用于磁控溅射镀膜机的磁体用调节机构。

背景技术

众所周知，磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶材阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法；即在二极溅射中增加一个平行于靶材表面的封闭磁场，借助于靶材表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶材表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

在现有技术中，通常是通过一呈板状长方体结构的磁体来提供磁场，虽然磁控溅射的技术日趋成熟，但是其仍存在众多的缺陷，一方面，由于板状长方体结构的磁体本身的磁场分布是不均匀的，造成了靶材所处区域的磁场分布不均匀，使得在二极溅射中的二次电子的运动不稳定及分布不均匀，最终导致待镀膜的基片的镀膜分布不均匀及镀膜厚度不一致，从而严重影响了基片的镀膜质量及合格率；另一方面，由于磁体相对于靶材往往是呈固定设置的，无法移动，对于靶材面积较大而磁体所产生的磁场较小的情况时，则使得靶材的利用率和溅射范围受到限制，无法充分利用靶材，对未处于磁场作用区域内的靶材造成浪费，且很大的制约了基片镀膜的加工效率，且也会对基片的镀膜质量及合格率产生一定的不良影响。

因此，急需要一种磁体用调节机构来克服上述存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够对磁体进行调节的磁体用调节机构，该磁体用调节机构不但能提高镀膜合格率及镀膜质量，而且还能提高靶材利用率及镀膜加工效率。

为实现上述的目的，本发明提供了一种磁体用调节机构，适用于磁控溅射镀膜机，所述磁控溅射镀膜机包括镀膜室、加热保温板、靶材、安装架及呈板状结构的磁体，所述加热保温板及靶材均设于所述镀膜室内，且所述靶材位于加热保温板的一侧，所述安装架安装于镀膜室的外部；其中，所述磁体呈移动的设于所述安装架，所述磁体位于所述加热保温板的另一侧且两者呈间隔开的设置，所述磁体用调节机构设于所述磁体及安装架之间，所述磁体用调节机构包括移磁调节组件及均磁调节组件，所述移磁调节组件及均磁调节组件均设于所述磁体及安装架之间，通过所述移磁调节组件驱使所述磁体相对所述靶材沿平行于所述靶材的方向做平移调节操作，通过所述均磁调节组件驱使所述磁体弯曲以调节所述磁体两端与所述靶材的距离。

较佳地，所述移磁调节组件包含主动齿轮及从动条形齿，所述主动齿轮枢接于所述安装架，所述从动条形齿沿所述磁体做平移调节的方向安装于所述磁体，且所述主动齿轮与所述从动条形齿啮合配合。

较佳地，所述靶材及磁体均沿竖直方向设置，所述磁体做平移调节的方向呈水平方向设置。

较佳地，所述移磁调节组件还包含枢转轴及操作件，所述枢转轴枢接于所述安装架，所述主动齿轮安装于所述枢转轴靠近所述磁体的一端，所述操作件安装于所述枢转轴远离所述磁体的一端。

较佳地，所述安装架上设有一枢接座，所述枢转轴枢接于所述枢接座。

较佳地，所述磁体的两端均设有所述均磁调节组件，所述均磁调节组件包含连接座、抵推螺栓及回拉螺栓，所述连接座连接于所述安装架，所述抵推螺栓的一端螺纹连接于所述连接座，所述抵推螺栓的另一端抵触于所述磁体，所述回拉螺栓的一端螺纹连接于所述磁体，所述回拉螺栓的另一端滑动贯穿所述连接座，所述连接座均位于所述磁体与所述回拉螺栓的螺帽之间，且所述连接座抵触于所述回拉螺栓的螺帽；所述安装架还连接有顶推部，所述顶推部朝靠近所述靶材的方向抵推于所述磁体，且所述顶推部位于所述磁体的两端的所述均磁调节组件之间。

较佳地，所述均磁调节组件还包含导向件，所述导向件沿所述磁体做平移调节的方向设于所述安装架，所述连接座呈滑动连接于所述导向件。

较佳地，所述移磁调节组件位于所述磁体的两端的所述均磁调节组件之间，且所述顶推部形成于所述移磁调节组件。

较佳地，所述顶推部形成于所述主动齿轮靠近于所述磁体的端部。

较佳地，所述安装架开设有一容置槽，所述移磁调节组件及均磁调节组件均位于所述容置槽内。