[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201410081006.6 | 申请日: | 2008-08-29 |
公开(公告)号: | CN104051213A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 松浦广行;高桥俊树;福岛讲平 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C16/509 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;邸万杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,对被处理体实施等离子体处理,其特征在于,包括:
能够抽真空的圆筒状的处理容器;
保持多个被处理体向所述处理容器内插拔的保持单元;
向所述处理容器内供给气体的气体供给单元;和
利用等离子体使所述气体活性化的活性化单元,
其中,所述活性化单元由沿所述处理容器的长边方向配设的等离子体生成箱、沿所述等离子体生成箱配设的电感耦合型的电极、和连接到所述电感耦合型的电极的高频电源构成,
所述电感耦合型的电极在所述等离子体生成箱的一端折返,沿所述等离子体生成箱的两侧壁配设,
所述等离子体生成箱由截面“コ”状的等离子体区分壁区分形成,该等离子体区分壁由相对的一对侧壁和连接该侧壁的一端侧的背面壁构成,
串联连接成为一部分被切去的状态的多个环状电极而形成所述电极。
2.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述电极包括一部分被切去且在所述两侧壁上沿其长边方向以直线路状排列的多个环状的环状电极,和沿所述排列方向连接相邻的所述环状电极的一端彼此、为了整体串联连接而离开所述侧壁配设的连接电极。
3.如权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述电极包括一部分被切去且在所述背面壁上沿其长度方向排列的多个环状的环状电极,和沿所述排列方向连接相邻的所述环状电极的一端彼此、为了整体串联连接而离开所述背面壁配设的连接电极。
4.一种等离子体处理装置,对被处理体实施等离子体处理,其特征在于,包括:
能够抽真空的圆筒状的处理容器;
保持多个被处理体向所述处理容器内插拔的保持单元;
向所述处理容器内供给气体的气体供给单元;和
利用等离子体使所述气体活性化的活性化单元,
其中,所述活性化单元由沿所述处理容器的长边方向配设的等离子体生成箱、沿所述等离子体生成箱配设的电感耦合型的电极、和连接到所述电感耦合型的电极的高频电源构成,
所述电感耦合型的电极在所述等离子体生成箱的一端折返,沿所述等离子体生成箱的两侧壁配设,
所述等离子体生成箱由截面“コ”状的等离子体区分壁区分形成,该等离子体区分壁由相对的一对侧壁和连接该侧壁的一端侧的背面壁构成,
所述电极沿所述两侧壁的长度方向2次往返份配设。
5.如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述电极在所述两侧壁上沿其长度方向被卷绕2次、成为所述2次往返份。
6.如权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述电极在所述两侧壁之内的任意一个侧壁上沿其长度方向彼此隔开间隔1次往返地配设,并且在另一个侧壁上沿其长度方向彼此隔开间隔1次往返地配设,整体上成为所述2次往返。
7.一种等离子体处理装置,对被处理体实施等离子体处理,其特征在于,包括:
能够抽真空的圆筒状的处理容器;
保持多个被处理体向所述处理容器内插拔的保持单元;
向所述处理容器内供给气体的气体供给单元;和
利用等离子体使所述气体活性化的活性化单元,
其中,所述活性化单元由沿所述处理容器的长边方向配设的等离子体生成箱、沿所述等离子体生成箱配设的电感耦合型的电极、和连接到所述电感耦合型的电极的高频电源构成,
所述电感耦合型的电极在所述等离子体生成箱的一端折返,沿所述等离子体生成箱的两侧壁配设,
所述等离子体生成箱由截面“コ”状的等离子体区分壁区分形成,该等离子体区分壁由相对的一对侧壁和连接该侧壁的一端侧的背面壁构成,
所述电极通过所述两侧壁形成1匝,且所述电极以曲线路状弯曲地形成,使得所述等离子体生成箱的高度方向的中央部最向所述处理容器的中心侧突出。
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