[发明专利]设备抗辐照加固再设计方法有效

专利信息
申请号: 201410078309.2 申请日: 2014-03-05
公开(公告)号: CN103793583B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 秦晨飞;魏敬和;刘士全;徐睿;蔡洁明;顾展宏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 总装工程兵科研一所专利服务中心32002 代理人: 杨立秋
地址: 214035 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 设备 辐照 加固 设计 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及抗辐照加固技术领域,尤其是一种设备抗辐照加固再设计方法。

背景技术

在可靠性要求极高的航空航天领域,需要先进的抗辐照技术来保证设备的正常运行,传统的设备抗辐照设计步骤是:

1,进行设备的初次抗辐照设计:(1)设计抗辐照的时序单元(TMR、DICE、RC滤波、C单元等);(2)根据设计要求确定实际电路结构、驱动能力、P N管最佳比率,完成时序、面积要求;(3)对这几种抗辐照时序单元做出防护能力分析,做出折衷选择(综合考虑性能、面积和抗辐照效果);(4)进行综合时调用该选定时序单元。

2,进行流片测试,确保没问题后进行设备辐照试验。

3,如设备还存在单粒子翻转问题,再次进行设备的抗辐照加固设计。

4,再次进行设备的辐照试验,如此反复,直到设备单粒子翻转指标合格。 

 按照上面的设计方法,很难定位、分析单粒子翻转问题并且量化设备需要的抗辐照能力,所以需要多次进行辐照试验,调整设备的抗辐照能力,增加了设计成本,延长了设计周期。因此非常迫切需要一种行之有效的设备抗辐照加固再设计方法。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种设备抗辐照加固再设计方法。

为了解决上述技术问题,本发明以下步骤: 

步骤一,对设备进行真实辐照环境下的辐照试验,并判定寄存器各节点是否发生单粒子翻转;

步骤二,对设备进行故障仿真,判定只要单粒子发生翻转必定会导致锁存错误的节点:

步骤三,对步骤二中所判定的节点确定其临界翻转电流值;

步骤四,对步骤二所判定的节点进行选择,选出在真实环境辐照测试中没有发生翻转的节点;

步骤五,将步骤四中选择出的节点按其临界翻转电流值进行排序;

步骤六,将排序中最小的临界翻转电流值作为设备抗辐照的加固目标。

优选地,所述步骤二中,通过Hspice软件进行仿真。

本发明将辐照试验与仿真方法相结合,能够将设备抗辐照加固要求进行量化,只要一次辐照试验就能完成设备的抗辐照加固再设计,大大简化了再设计的难度,节约了设计成本,加快了设计进度。

具体实施方式

本发明所列举的实施例,只是用于帮助理解本发明,不应理解为对本发明保护范围的限定,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明思想的前提下,还可以对本发明进行改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求保护的范围内。

本发明所述设备抗辐照加固再设计方法包括以下步骤:

步骤一,对设备进行真实辐照环境下的辐照试验,通过对设备进行读写操作,可判定寄存器各节点是否发生单粒子翻转;

步骤二,通过Hspice软件对设备进行故障仿真,通过仿真软件加载双指数电流源,模拟寄存器各节点单粒子翻转情况,并判定只要单粒子发生翻转必定会导致锁存错误的节点:

步骤三,对步骤二中所判定的节点确定其临界翻转电流值;

步骤四,对步骤二所判定的节点进行选择,选出在真实环境辐照测试中没有发生翻转的节点;

步骤五,将步骤四中选择出的节点按其临界翻转电流值进行排序;

步骤六,将排序中最小的临界翻转电流值作为设备抗辐照的加固目标。

为了使大家更好的理解本发明,下面利用本发明对某设备进行加固再设计,该设备所处的真实辐照环境下LET值为37MeV﹒cm2/mg。

步骤一,对设备进行真实辐照环境下的辐照试验,所加LET值为37MeV﹒cm2/mg,通过对设备进行读写操作,可判定寄存器各节点是否发生单粒子翻转;

步骤二,通过Hspice软件对设备进行故障仿真,通过仿真软件加载双指数电流源,模拟寄存器各节点单粒子翻转情况,得到如表1所示只要单粒子发生翻转必定会导致锁存错误的节点;

步骤三,对步骤二中所判定的节点确定其临界翻转电流值,如表1所示;

步骤四,对步骤二所判定的节点进行选择,选出在真实环境辐照测试中没有发生翻转的节点;

步骤五,将步骤四中选择出的节点按其临界翻转电流值进行排序,如表2所示;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十八研究所,未经中国电子科技集团公司第五十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410078309.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top