[发明专利]一种镀膜玻璃及其应用

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃领域，具体涉及一种镀膜玻璃及其应用。

背景技术

目前磁控溅射镀膜工艺中，镀膜主要分为金属层及非金属介质干涉层；干涉层材料通常是氮化硅铝、氧化锌锡、氧化锌锡锑、氧化锡、氧化锌铝、氧化钛等几种物质，而现有的研究主要集中在对膜层中的介质层的材料进行改进变更。

由于工艺及成本的原因，制造介质层的阴极靶材通常也是金属或金属合金，在镀膜过程中，通常采用磁控溅射工艺将材料用电离的工艺气体氩气离子溅射出来，在此过程中溅射出来的粒子与通入的反应气体氧气或者氮气反应，形成具有低吸收、稳定、有一定折射率的介质化合物（氧化物或者氮化物）。由此，产出的介质膜的成份受气氛影响，物理性质并不十分稳定，最终表征在产品的各个性质上面，并且膜层的折射率也会有一定的变动；同时，氧化反应产生大量的热，严重影响溅射效率及增大设备的热负荷影响；膜层中的富余物氧或氮由于存在迁移还能进入前后金属膜层并产生负面影响。例如：氧化物中残余的氧可以迁移到银层，导致银层氧化，辐射率升高。

另外，上述磁控溅射镀膜是通过合理组合介质层与金属层的搭配，在实现所需节能性能的基础上并通过调整各个膜层的厚度来形成需要的干涉颜色、反射率、透射率等外观指标。光的干涉涉及介质材料中的一个比较重要的指标就是材料的折射率。按照相长（高反射区）干涉与相消（弱反射区）干涉原理，折射率越大能形成的光强区或减反射区越宽，例如，减反膜及高反膜就是低折射率与高折射率材料组合并通过相干作用实现最理想的相长或相消以达到最理想的高反射或者低反射。

然而，在上述原有的介质材料中，氮化硅铝、氧化锌锡、氧化锌锡锑、氧化锡、氧化锌铝、氧化钛等氧化物或氮化硅的折射率在1.98左右，用这些介质材料生产高性能双银及三银低辐射玻璃时将面临一个问题，想要获得较高的性能，就要加厚功能层--银层，这将让产品的反射及透射的拐点多处于400-640nm范围内，这样，不仅不能获得高透高性能的产品，而且偏色也会很严重。

而氧化钛的折射率在2.35左右，按照氧化钛的折射率本可以做出节能指标高的双银低辐射玻璃，并且有效的解决偏色问题，但是，氧化钛氧敏感性非常强且价态及晶型较多，导致溅射产生物、膜层结构及折射率不稳定，给产品的均匀性、重复性带来了不确定，因此，目前这种材料因不能满足低辐射镀膜玻璃的高要求而已经被淘汰了。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的上述不足，制造一种新的镀膜玻璃，旨在解决现有技术中镀膜玻璃中的介质层折射率不高，在溅射过程中物化性能不稳定，并随之影响金属膜层，且目前镀膜玻璃偏色情况严重、综合性能不佳的问题。

本发明的另一目的是提供一种镀膜玻璃在建筑镀膜产品中的应用。

为了实现上述发明目的，本发明的技术方案如下：

一种镀膜玻璃，包括玻璃基片和在所述玻璃基片一表面层叠结合的第一介质层，所述第一介质层外表面层叠结合至少一个功能单元，所述每一功能单元由邻近所述第一介质层向外依次层叠结合有抗氧化层、功能层、另一相同的抗氧化层和另一相同的介质层，其中，所述介质层为掺杂金属的碳化硅膜层。

以及，上述镀膜玻璃在建筑镀膜产品中的应用。

上述镀膜玻璃具有以下有益技术效果：(1)利用掺杂金属的碳化硅膜层的高折射率显著拓宽了在可见光区的透射区间，改善目前低辐射玻璃的偏色问题，提高了产品的视觉品质；(2)利用碳化硅高硬度和极低的膨胀系数增强新产品膜层的稳定性，为可钢化技术的实现提供可能；(3)在介质层与功能层之间层叠结合的抗氧化层进一步防止介质层对功能层的接触污染，保证各膜层的稳定；(4)设置多层抗氧化层、功能层以及掺杂金属的碳化硅膜层来调节各膜层之间的干涉结果的差异，从而实现最为理想的相干颜色效果。

上述镀膜玻璃利用掺杂金属的碳化硅膜层的高折射率、高硬度和低膨胀系数提高镀膜玻璃的稳定性和可钢化处理性，同时改善其偏色效果，使其可用于制备减反膜、高反膜、节能膜等产品，并可应用于建筑镀膜产品领域。

附图说明

图1为本发明实施例中只含有一个功能单元的镀膜玻璃的结构示意图；

图2为本发明实施例中含有两个功能单元的镀膜玻璃的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例与附图，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。