[发明专利]一种利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置有效

专利信息
申请号: 201410069030.8 申请日: 2014-02-27
公开(公告)号: CN103869386A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 赵建林;赵晨阳;甘雪涛;庞燕;刘圣 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G02B1/02 分类号: G02B1/02;G02B6/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 缺陷 光子 晶体 产生 矢量 光束 装置
【权利要求书】:

1.一种利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于包括半导体材料(1)、空气孔(2)和光子晶体微腔(3);半导体材料(1)为具有厚度d的平板,平板上均匀分布若干空气孔(2),缺失空气孔的部位形成光子晶体微腔(3);所述光子晶体微腔(3)为多个,且对称分布。

2.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述光子晶体微腔(3)为三个时,三个光子晶体微腔(3)形成三角形的三缺陷微腔结构。

3.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述光子晶体微腔(3)为四个时,四个光子晶体微腔(3)形成四边形的四缺陷微腔结构。

4.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述光子晶体微腔(3)为六个时,六个光子晶体微腔(3)形成正六边形的六缺陷微腔结构。

5.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述半导体材料模式的波长范围能够覆盖近紫外到红外波段。

6.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述半导体材料为高介质折射率材料,包括Ⅳ族和Ⅲ-Ⅴ族半导体材料。

7.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述Ⅳ族和Ⅲ-Ⅴ族半导体材料为硅、磷化镓或砷化镓。

8.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述三角晶格空气孔型光子晶体的晶格常数a与空气孔半径r之比为a:r=1:0.3。

9.根据权利要求1所述利用多缺陷光子晶体微腔产生矢量光束的装置,其特征在于:所述半导体材料的厚度为d=220nm。

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