[发明专利]用于生产硅块的设备

权利要求书

1.一种用于生产硅块的设备（1），其包括：

a、至少一个用于容纳半导体熔体的第一容器（3）；

b、至少一个用于容纳半导体熔体的第二容器（4）；

c、其中，所述至少一个第二容器（4）具有出口（12），经由所述出口（12），液态硅能够从所述至少一个第二容器（4）流出到所述至少一个第一容器（3）中；以及

d、其中，所述容器（3、4）布置在共同的腔（9）中。

2.根据权利要求1所述的设备（1），其特征在于，所述第二容器（4）的容量（V₂）小于所述第一容器（3）的容量（V₁），即V₂＜V₁。

3.根据权利要求1至2之一所述的设备（1），其特征在于，所述设备（1）包括加热装置（15），所述加热装置（15）适用于不仅在所述第一容器（3）中而且在所述第二容器（4）中使得硅（6）熔融。

4.根据权利要求3所述的设备（1），其特征在于，所述加热装置（15）通过如下方式构成，即，在使得所述第一容器（3）中的硅熔体（2）固化期间，能够使得所述第二容器（4）中的块状硅（6）熔融。

5.根据前述权利要求之一所述的设备（1），其特征在于用于容纳块状硅（6）的第三容器（8），所述第三容器（8）经由输送装置（7）与所述第二容器（4）连接。

6.一种用于生产硅块的方法，其包括如下步骤：

a、提供一种根据前述权利要求之一所述的设备（1）；

b、在所述第一容器（3）中提供硅熔体（2）；

c、在所述第二容器（4）中提供硅熔体（2）；

d、使得所述第一容器（3）中的所述硅熔体（2）定向固化；以及

e、将液态硅从所述第二容器（4）转移到所述第一容器（3）中。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，在使得所述第一容器（3）中的所述硅熔体（2）定向固化期间，将液态硅从所述第二容器（4）转移到所述第一容器（3）中。

8.根据权利要求6至7之一所述的方法，其特征在于，在一个或者多个时间段期间连续地将液态硅从所述第二容器（4）转移到所述第一容器（3）中。

9.根据权利要求6至8之一所述的方法，其特征在于，所述第一容器（3）具有容量（V₁），总共从所述第二容器（4）转移到所述第一容器（3）中的液态硅具有容量（V_n），其中，适用的是：0.05V₁≤V_n。

10.根据权利要求6至9之一所述的方法，其特征在于，从所述第二容器（4）到所述第一容器（3）中的所述转移以处于0.1kg/h至10kg/h范围内的速率来实现。

11.根据权利要求6至10之一所述的方法，其特征在于，所述第二容器（4）中的硅具有预先确定的浓度的一种或多种掺杂物。

12.根据权利要求6至11之一所述的方法，其特征在于，在使得所述第一容器（3）中的硅熔体（2）固化期间，至少阶段式地将块状硅（6）从第三容器（8）输送给所述第二容器（4）。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，输送给所述第二容器的硅（6）具有预先确定的浓度的一种或多种掺杂物。

14.一种硅块，其按照根据权利要求6至13之一所述的方法来生产。