[发明专利]晶圆清洗装置在审
| 申请号: | 201410065684.3 | 申请日: | 2014-02-26 | 
| 公开(公告)号: | CN104867810A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 | 
| 发明(设计)人: | 杨贵璞;王坚;王晖 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 | 
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 | 
| 地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
1.一种晶圆清洗装置,包括清洗腔、清洗刷、滚轴和滚轮,清洗刷安装在清洗腔内,滚轴的第一端位于清洗腔内,滚轮安装在滚轴的第一端上,该滚轴的第二端延伸到清洗腔外并连接到驱动轮,驱动轮驱动滚轴转动,其特征在于,还包括检测装置,所述检测装置检测滚轴是否旋转,所述检测装置收发信号,检测装置根据所述信号的收发情况判断滚轴是否旋转。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述滚轴伸出清洗腔外的部分上具有径向的贯穿孔,所述检测装置包括发射传感器、接收传感器和控制器,发射传感器和接收传感器相对布置在滚轴的两侧并与所述贯穿孔对齐,发射传感器发射信号,接收传感器与控制器相连接,接收传感器通过接收穿过贯穿孔的信号并将接收信息发送至控制器,滚轴每旋转一圈,接收传感器能够接收到2次信号,设定单位时间内滚轴旋转N圈,如果接收传感器在单位时间内能够接收到2N次信号,则表明滚轴一直在转动,如果单位时间内接收传感器一直能够接收到信号或者一直无法接收到信号,则认为滚轴停止转动,控制器输出报警信号。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述发射传感器和接收传感器为光电式传感器,发射传感器发射光信号,接收传感器接收穿过贯穿孔的光信号,将光信号转换为电信号并发送至控制器。
4.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述检测装置包括传感器、检测体和控制器,检测体设置在滚轴伸出清洗腔外的部分上,传感器布置在滚轴的一侧并与所述检测体对齐,当检测体与传感器对准时,传感器能够检测到检测体,传感器与控制器相连接,滚轴每旋转一圈,传感器能够检测到一次检测体,设定单位时间内滚轴旋转N圈,如果传感器在单位时间内能够检测到N次检测体,则表明滚轴一直在转动,如果传感器在单位时间内一直能够检测到检测体或者一直无法检测到检测体,则认为滚轴停止转动,控制器输出报警信号。
5.根据权利要求4所述的晶圆清洗装置,其特征在于,所述传感器为光电式传感器,所述检测体发射光信号,当检测体与传感器对准时,传感器接收检测体发射的光信号,转换为电信号并提供至控制器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛美半导体设备(上海)有限公司,未经盛美半导体设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410065684.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:非金属图案的制作方法
- 下一篇:仿手式操作杆
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





