[发明专利]一种水稻高产种植方法在审

专利信息
申请号: 201410064169.3 申请日: 2014-02-25
公开(公告)号: CN104855192A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 陈夙锋 申请(专利权)人: 上海宝山夙峰园艺场
主分类号: A01G16/00 分类号: A01G16/00;A01G25/00
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 代理人: 叶克英
地址: 201906 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 水稻 高产 种植 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种水稻高产种植方法。

背景技术

目前我国由于人口众多,可耕地人均面积小,而粮食问题是关系到民生的根本问题,因此只要有充足的灌溉水的,一般均有种植高产的水稻,但是目前水稻的产量一直徘徊在亩产几百公斤左右,一些地区由于气候土壤的关系会有增加,高的约为不足千公斤,经过研究发现,制约水稻产量的基本原因有许多,但是目前种子、化肥、管理等均已到达一个较高水平,而只有水稻生长的关键问题,水如何灌溉还处于粗放式的方法,灌溉时是将整个水稻田里灌满水,没有水位管理,而全然不顾水稻对水的阶段性需求是不同的,现在我国很多地方有缺水现象,因此如何合理科学灌溉水稻,即能降低水稻的用水,又能增加水稻量将是解决我国人口的口粮紧缺问题的关键。

发明内容

本发明的目的是解决现有技术中水稻在种植中水的灌溉采用粗放管理,没有精细控制水量所存在的上述问题,提供一种水稻高产种植方法。本发明设计一种水稻高产种植方法,其特征在于:整土地至水平,然后用包衣种籽单粒进行点播,稻种按照株距行距点播在土壤表面,在稻种出苗前灌溉采用薄皮水,在水稻出苗后,灌溉控制的水位在水稻种植土壤半露泥面,维持10天半露泥面。灌溉控制的水位为高水位在水稻种植土壤面的高出2厘米。灌溉的时间为上午9点前灌溉到高水位,在下午4点蒸发至土壤平面下,下午4点至次日上午9点为低水位。行距为25厘米,株距为8厘米,土地上设有垄沟,垄沟的宽度为30厘米,垄宽为90厘米。本发明的优点是给予水稻生长的有利条件,可以最大限度地发挥水稻根系的作用,在生长过程中节水灌溉,可以保证水稻产量达到超千公斤,以上水位数据应当根据当地的物侯条件而灵活运用。

具体实施方式

本发明人已申请了两项专利,2011101749907,是一种灌溉方法,2013104519342是一种利用前面的灌溉方法的工厂化农业种植方法,发明人根据研究,发现了植物根系的各自作用,经过三年的实践,基本上掌握了植物根系在生长中的规律,就是植物吸收养料是浅生根,它吸收潮湿肥气,而深根系吸收水份。本发明正是上述基本规律的实现。

一种水稻高产种植方法,其特征在于:整土地至水平,然后用包衣种籽单粒进行点播,稻种按照株距行距点播在土壤表面,在稻种出苗前灌溉采用薄皮水,在水稻出苗后,灌溉控制的水位在水稻种植土壤半露泥面,苗期维持10天半露泥面。灌溉控制的水位为高水位在水稻种植土壤面的高出2厘米。灌溉的时间为上午9点前灌溉到高水位,在下午4点蒸发至土壤平面下,下午4点至次日上午9点为低水位。行距为25厘米,株距为8厘米,土地上设有垄沟,垄沟的宽度为30厘米,垄宽为90厘米。

灌溉的时间为上午9点前灌溉到高水位,在下午4点前蒸发至土壤水平面,下午4点至次日上午9点为低水位。以上水位数据应当根据当地的物侯条件而灵活运用。

由于稻谷籽喜光性,因此在生长时更需要阳光,采用包衣种籽单粒点播,可以最大程度照射到足够的阳光,在稻种发苗前,采用薄皮水,不用插秧,主要就是过于密集的水稻秧苗相互之间遮挡阳光,使水稻生长的关键步骤分蘖晚一拍,成为过龄苗(过期分蘖往往是无效分蘖,最后不结穗),而且插秧的水稻其浅根系被插入土壤过深,影响了以后生长的分孽能力,最后难以形成高密株。在出苗后,为了保证多分早分孽,可以薄肥勤施,且采用化肥尿素,这样可以少病虫害,并且在分蘖密株后,能够保证叶下的空气流通和清洁。一般每亩用尿素不超过100公斤,出苗后一星期后3天施肥一次6公斤,连续12次,

在上午9点到下午4点为满水时间段,此时,太阳光非常辣,满水可以防止高温伤害水稻的浅生根系,此时生物菌进行无氧呼吸,间歇发酵畜势储能,控制了长时间无氧发酵产生,抑制了有害气体甲烷,防止大气污染,变付能量为正能量,保障了植物的生长。下午4点到次日上午9点,气温下降,水位也慢慢下降到最低,土壤表面露出水面,土壤中空隙多了,使生物菌进行有氧呼吸,大量繁殖,中和了叶下有氧空气的流通,露出水面的浅根系及时吸收营养益气,促进水稻苗的旺发,在这个时间段,也是施肥的最佳时间,可以更加容易被植物吸收,而不易流失。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宝山夙峰园艺场,未经上海宝山夙峰园艺场许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410064169.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top