[发明专利]涂布装置以及涂布方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种涂布装置以及涂布方法。

本申请基于2013年2月25日在日本申请的日本特愿2013-034836号主张优先权，并在本发明中援引其内容。

背景技术

作为旋转雾化涂装方法，已知向成形空气的周围供给调温空气，而消除空气与成形空气的温度差，从而防止紊流的产生的方法(例如，参照专利文献1)。

【在先技术文献】

【专利文献】

专利文献1：日本特开平9-225350号公报

但是，在上述现有技术中，未考虑成形空气的调温，例如在基板的处理温度高的情况下可能存在不能得到良好的涂布膜的现象。

发明内容

本发明就是鉴于这种课题而完成的，其目的在于提供能够对处理温度高的基板进行良好的涂布的涂布装置以及涂布方法。

为了实现上述目的，本发明的一方式所涉及的涂布装置的特征在于，具备：涂布喷嘴，其向基板涂布涂布液；气体供给部，其供给对所述涂布液向所述基板的喷出方向进行控制的调温气体。

根据本方式所涉及的涂布装置，由于通过调温气体对涂布液进行调温，因此即使在例如保持基板被调温了的状态的情况下，也能够通过减小基板与涂布液的温度差而将优质的涂布膜形成在基板上。

在上述涂布装置中，可以设置为如下的结构，即，所述气体供给部供给作为所述调温气体的不活泼气体。

根据该结构，通过供给不活泼气体能够将基板周边部保持为脱氧以及脱水分状态。

在上述涂布装置中，可以设置为如下的结构，即，所述不活泼气体为氮气。

根据该结构，能够将基板周边部良好地保持为脱氧以及脱水分状态。

在上述涂布装置中，可以设置为如下的结构，即，所述涂布喷嘴涂布作为所述涂布液的包含金属以及溶剂的液状体。

根据该结构，由于基板周边部被设置为脱氧以及脱水分状态，因此能够良好地涂布含有金属以及溶剂的液状体。

在上述涂布装置中，可以设置为如下的结构，即，所述涂布喷嘴由旋转雾化喷嘴构成，所述调温气体为成形空气。

根据该结构，能够利用旋转雾化喷嘴在基板上形成优质的涂布膜。

此外，可以设置为如下的结构，即，所述气体供给部供给作为所述旋转雾化喷嘴中的涡轮空气以及轴承空气的所述调温气体。

根据该结构，由于被供给至涂布喷嘴内的涡轮空气以及轴承空气成为被调温了的状态，因此能够抑制在喷嘴内成形空气的温度降低。

在上述涂布装置中，可以设置为如下的结构，即，还具备对将所述基板调温了的状态进行保持的调温机构。

根据该结构，通过将基板调温能够对处理温度高的基板进行涂布处理。

本发明的一方式所涉及的涂布方法的特征在于，具备从涂布喷嘴将由包含金属以及溶剂的液状体构成的涂布液涂布在基板的一面的涂布工序，在所述涂布工序中，供给对所述涂布液向所述基板的喷出方向进行控制的调温气体。

根据本发明的涂布方法，由于通过调温气体对涂布液进行调温，因此即使在例如保持基板被调温了的状态的情况下，也能够通过减小基板与涂布液的温度差而将优质的涂布膜形成在基板上。因此，通过使用由含有金属以及溶剂的液状体构成的涂布液，能够将例如优质的太阳能电池的光吸收层形成在基板上。

在上述涂布方法中，可以设置为如下的结构，即，在所述涂布工序中，将旋转雾化喷嘴用作所述涂布喷嘴。

根据该结构，利用旋转雾化喷嘴，能够在基板上形成优质的涂布膜。

在上述涂布方法中，可以设置为如下的结构，即，在所述涂布工序中，通过调温机构对所述基板被调温了的状态进行保持。

根据该结构，通过将基板调温能够对处理温度高的基板进行涂布处理。

根据本发明，能够对处理温度高的基板进行良好的涂布。

附图说明

图1为表示实施方式所涉及的涂布装置的结构的图。

图2为表示涂布喷嘴的周边结构的图。

图3为表示涂布喷嘴的剖面结构的图。

图4为表示涂布装置的结构的俯视图。

图5为表示吸引部的结构的图。

图6为表示涂布装置的动作的图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。

图1为表示本实施方式所涉及的涂布装置CTR的结构的图。