[发明专利]一种球形氧化铈多孔磨料及其在超精密抛光中的用途

权利要求书

1.一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于采用如下方法制备：向球菌模板中加入蒸馏水和无水乙醇得到体系，滴入盐酸将体系的pH值调至3，再加入铈盐，并将铈离子浓度控制在0.005 mol/L～0.5 mol/L；在超声及机械搅拌的条件下促进球菌模板在溶液中的分散，浸渍48 h-72 h后，再将球菌模板离心分离、烘干；首先将浸渍烘干后的球菌模板在氮气保护条件下，于300 ℃～600 ℃下进行煅烧，保温1 h~3 h；再将经过预煅烧的产物置于马弗炉中，在300 ℃～600 ℃下进行二次煅烧，保温1 h~3 h，经过两步煅烧工艺后可将模板彻底去除，并最终获得球形氧化铈多孔磨料。

2.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于所述球菌模板采用如下方法制备：将微球菌放置在LB培养基中，再将培养皿置于恒温恒湿箱里，在温度为22 ℃~26℃、相对湿度为30%~40%的条件下培养球菌，培养3~7天获得尺寸在100 nm~1000 nm的球菌模板。

3.如权利要求2所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于所述LB培养基的组分如下：蒸馏水、葡萄糖、氯化钠、鱼粉蛋白胨、琼脂和酵母浸膏，按照质量比200：1：0.5：1：4：0.5混合。

4.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：球菌模板、蒸馏水和无水乙醇按照质量与体积比0.5 g-2 g：50 mL-200 mL：2 mL-10 mL加入。

5.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：铈盐为硝酸铈、硫酸铈和氯化铈中的任一种。

6.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：所述烘干指置于20℃~50℃鼓风干燥箱中烘干。

7.如权利要求5所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：所述铈盐为硝酸铈。

8.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：铈离子的浓度范围在0.01 mol/l～0.1 mol/l之间。

9.如权利要求6所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：烘干温度在30 ℃～40℃之间。

10.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料，其特征在于：第一次煅烧温度在400 ℃～600 ℃之间，第二次煅烧温度在500 ℃～600 ℃之间，煅烧时间在1 h～2 h之间。

11.如权利要求1所述的一种球形氧化铈多孔磨料在超精密抛光中的用途。

12.如权利要求11所述的一种球形氧化铈多孔磨料在超精密抛光中的用途，其特征在于：将所制备的多孔氧化铈磨料配制成抛光浆料，使用精密抛光机对硅热氧化片进行抛光试验。

13.如权利要求12所述的一种球形氧化铈多孔磨料在超精密抛光中的用途，其特征在于：所述的抛光浆料采用所制备的多孔氧化铈磨料、去离子水和十二烷基苯磺酸钠配制而成，将多孔氧化铈磨料加入到离子水中，配制成质量浓度为0.5wt%~10 wt%的浆料，加入浆料1 wt%的十二烷基苯磺酸钠作为分散剂，并用氨水将浆料的pH值调至8~10，得到抛光浆料。

14.如权利要求12所述的一种球形氧化铈多孔磨料在超精密抛光中的用途，其特征在于：所述抛光的工艺条件为抛光压力为2~4 Psi、上盘转速为90 r/min、下盘转速为120 r/min、抛光时间为1 min、抛光浆料流量为100~200 mL/min。