[发明专利]匀胶版制造工艺

说明书

技术领域

本发明涉及匀胶版的制造，特别是涉及大尺寸匀胶版的制造工艺。

背景技术

匀胶版是一种硬面光掩模基版，具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。

匀胶版具有几种常规尺寸，如450mm*550mm、406.4mm*457.2mm等，相应地匀胶版的生产设备也是根据其常规尺寸相配备的，当需要制作常用尺寸的匀胶版时，则需要更改现有的生产设备或另外制造相匹配的设备，前者会对这个制造工艺的稳定性造成一定的影响，后者则会大幅度的增加生产成本，另外，对于大尺寸的匀胶版的生产，以现有生产设备和工艺标准会存在一系列问题，如抛光机摆臂范围超出、抛光粉痕迹清洗不掉、旋涂机功率小惯性过大等。

发明内容

有鉴于此，提供一种匀胶版制造工艺，适用于非常规的大尺寸的匀胶版的生产制造。

一种匀胶版制造工艺，包括以下步骤：抛光，提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理，所述抛光处理包括粗抛与精抛两次抛光处理；清洗，清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板，并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干；镀膜，在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜，然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜；涂胶，在玻璃基板的膜上涂一层光刻胶，所述光刻胶采用采用静止滴胶的方式边旋转边滴胶；以及坚膜，玻璃基板在涂胶后先水平静置，再竖立烘焙坚膜。

本发明匀胶版生成工艺在利用常规尺寸匀胶版的制造设备的基础上，通过对各环节工艺参数的改进，生产出非常规的大尺寸的匀胶版，大幅缩减了生产成本。

附图说明

图1为本发明匀胶版制造工艺流程图。

具体实施方式

以下将结合附图及具体实施方式对本发明进行详细说明。

本发明匀胶版制造工艺用于生产制造非常规的大尺寸的匀胶版，如规格为508mm*609mm的匀胶版等，利用现有常规尺寸的匀胶版的生产设备，最大程度上缩减生产成本。如图1所示，本发明匀胶版的生产工艺包括以下步骤：抛光、清洗、镀膜、涂胶以及坚膜。以下以生产508mm*609mm的匀胶版为例，对本发明匀胶版制造工艺进行详细说明。

首先，根据所要制造的匀胶版的尺寸提供相应尺寸的玻璃基板，并对玻璃基板进行抛光处理使其达到较高的平整度与光洁度。

所述玻璃基板可以是钠钙玻璃板、硼硅玻璃板、石英玻璃板等。如本实施例中所使用的玻璃基板的尺寸为508mm*609mm*4.8mm，进行抛光时，缺陷点大，通过粗抛、精抛两次抛光的方式，采用现有抛光粉，第一次粗抛按正反两面抛光30分钟，当缺陷被抛掉后，第二次精抛时间为正面小于1分钟，反面1-3分钟，把缺陷研磨在接受范围内，同时玻璃基板背面残留的抛光粉痕迹得到有效的处理，便于后续清洗。在抛光过程中，为避免撞到四周的围栏，可以适当调小抛光机摇臂摆幅。

在抛光完成后，需要对玻璃基板进行清洗，去除玻璃基板表面的碎屑、灰尘、残留的抛光粉等。

由于所使用的玻璃基板较常规尺寸大，玻璃基板的重量也相应地更大，抛光后手直接清洁很费力，可以在水箱内加一个支撑架后得到较好清洗效果。清洗时，由于风刀第一段水量较大，大尺寸的玻璃基板离风刀口太近，导致吹得不是特别干净，第二段再用风刀吹的时候会留下印子，经过对风刀的多次试验更换调节，将风刀由原来放置在第一段改在第二段，第一段风刀停止不用，避免一次性风刀不能吹干表面，引起的水渍现象。另外，可以相应地更改滚刷及滚刷出的啮合齿轮，使大尺寸的玻璃基板可以顺畅通过滚刷段，如将滚刷加长至510mm。

经过清洗之后，即进行镀膜，在玻璃板上生成氮化/氧化金属膜层。

由于常规镀膜车架并不适合大尺寸的玻璃基板镀膜，可以将2个限制的常规镀膜车架更改成大尺寸玻璃基板镀膜的专用车架。所述镀膜包括两次镀膜，第一次在玻璃基板上只镀一层氮化金属膜，镀膜时电流调小一倍。第一次镀膜之后进行清洗，然后再进行第二次镀膜，第二次镀膜是在玻璃基板上镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜，两次镀膜所形成氮化/氧化金属膜层，针孔非常少，制版后效果显著。

镀膜完成后，即进行涂胶操作，在玻璃基板的氮化/氧化金属膜层上涂覆光刻胶。