[发明专利]粒子射线照射装置有效

专利信息
申请号: 201410052116.X 申请日: 2009-06-09
公开(公告)号: CN103768730A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 岩田高明 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 俞丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 粒子 射线 照射 装置
【权利要求书】:

1.一种用于治疗的粒子射线照射装置,

利用控制器(10)对加速器(11)和扫描电磁铁(3)进行控制,将从所述加速器(11)射出的带电粒子束照射至照射对象,

所述扫描电磁铁(3)包括:X方向扫描电磁铁(3a);以及Y方向扫描电磁铁(3b),该Y方向扫描电磁铁(3b)在与所述X方向的扫描方向相正交的方向上进行扫描,其特征在于,

所述控制器(10)具有X方向和Y方向逆映射数学模型,该X方向和Y方向逆映射数学模型分别基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标来生成X方向指令值和Y方向指令值,以实现照射至照射对象的照射,所述X方向指令值是用于对所述X方向扫描电磁铁(3a)进行励磁的X方向指令值,所述Y方向指令值是用于对所述Y方向扫描电磁铁(3b)进行励磁的Y方向指令值,

所述X方向和Y方向逆映射数学模型分别是包含以两个变量来表示带电粒子束的照射位置平面上的所述目标照射位置坐标时的所述两个变量中的任意一个的多项式,

所述多项式中所包含的未知系数通过以下方式求出:即,对所述X方向扫描电磁铁(3a)和Y方向扫描电磁铁(3b)输入预先设定的多组X方向和Y方向指令值,对带电粒子束进行控制,对于实际照射的各照射位置坐标的实际数据,利用对其部分数据附加较小权重的加权最小二乘法来求出,以提高可靠性,

所述用于治疗的粒子射线照射装置具有摄像装置,根据所述摄像装置摄像过程中照射目标的移动或变形的信息,对所述目标照射位置坐标进行修正,根据修正后的所述目标照射位置坐标,并利用基于作为多项式的所述X方向和Y方向逆映射数学模型所分别生成的所述X方向和Y方向指令值,跟踪所述照射目标的移动或变形,由此控制所述X方向扫描电磁铁(3a)和Y方向扫描电磁铁(3b)来对带电粒子束进行扫描并照射到照射对象上。

2.如权利要求1所述的用于治疗的粒子射线照射装置,其特征在于,

所述X方向和Y方向逆映射数学模型有多组,能够从所述多组中选择要使用的所述X方向和Y方向逆映射数学模型。

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