[发明专利]纳米压印模板、系统以及压印方法

权利要求书

1.一种纳米压印模板，其特征在于包括：

对紫外光透明的第一基板；

压印图形结构，形成在所述第一基板的第一表面上；

加热部件，形成在所述第一基板的与所述第一表面相对的第二表面上，其中所述加热部件对所述紫外光透明；以及

第一电极对，形成在所述第二表面上，用于将外部电源施加的电流提供给所述加热部件从而使所述加热部件产生热量。

2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于

所述加热部件布置为使得所述第一基板均匀受热。

3.根据权利要求2所述的纳米压印模板，其特征在于

所述加热部件为条状，蜿蜒分布在所述第二表面上，或者为平层状，铺设在所述第二表面上；

所述第一电极对中的一个电极设置在所述第二表面的一侧，连接所述加热部件的一端，所述第一电极对的另一个电极设置在所述第二表面的另一侧，连接所述加热部件的另一端。

4.根据权利要求3所述的纳米压印模板，其特征在于

所述加热部件的材料为对所述紫外光透明的金属氧化物。

5.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于

所述第一电极对的材料为对所述紫外光透明的金属氧化物。

6.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于所述第一电极对中的两个电极分别连接所述外部电源的正负极，所述外部电源能够调节提供给第一电极对的电流。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的纳米压印模板，其特征在于所述纳米压印模板还包括对紫外光透明的第二基板，其中所述第二基板用于固定所述第一基板，并且其中所述第二基板的与所述第二表面相对的表面上设置有第二电极对，所述第二电极对与所述第一电极对对应设置。

8.根据权利要求7所述的纳米压印模板，其特征在于所述第一电极对中的两个电极分别通过所述第二电极对中对应的一个电极连接所述外部电源的正负极。

9.根据权利要求7所述的纳米压印模板，其特征在于所述固定为机械固定或电磁固定。

10.根据权利要求9所述的纳米压印模板，其特征在于所述纳米压印模板还包括磁性材料薄膜，形成在所述第二基板的与所述第二表面相对的表面上，用于在所述电流通过所述加热部件而形成电磁场时以电磁力将第一基板和第二基板吸合。

11.根据权利要求7所述的纳米压印模板，其特征在于所述纳米压印模板还包括光扩散薄膜，设置在所述第二基板的与所述第二表面相背的表面上。

12.一种纳米压印系统，其特征在于包括根据权利要求1-11中任一项所述的纳米压印模板以及用于承载待压印基片的基片承载平台。

13.根据权利要求12所述的纳米压印系统，其特征在于还包括安装在基片承载平台上的热电致冷器，所述热电致冷器包括热电致冷控制电路和热电致冷平台，其中热电致冷平台与所述待压印基片相接触，热电致冷控制电路用于调节热电致冷平台的温度。

14.一种利用权利要求12所述的纳米压印系统进行压印的方法，其特征在于包括步骤：

S100对加热部件进行加热以使得所述第一基板的温度达到预定温度，所述预定温度高于待压印基片上涂布的热塑压印胶的玻璃化转变温度；

S105将压印图形结构压印入所述热塑压印胶中；

S110对加热部件停止加热，冷却所述基片直至被压印区域固化；

S115将所述模板与所述热塑压印胶分离，被压印区域形成压印图形；以及

S120重复步骤S100-S115，直至整个基片完全图形化。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于在利用权利要求6所述的纳米压印模板时，对加热部件进行加热以使得所述第一基板的温度达到预定温度的步骤包括

S1000通过所述外部电源控制施加到所述第一电极对的电流值来使得所述第一基板的温度达到预定温度。

16.根据权利要求14所述的方法，其特征在于在利用权利要求8所述的纳米压印模板时，对加热部件进行加热以使得所述第一基板的温度达到预定温度的步骤包括

S1000通过所述外部电源控制施加到所述第二电极对的电流值来使得所述第一基板的温度达到预定温度。