[发明专利]一种多晶硅还原装置

权利要求书

1.一种多晶硅还原装置，包括多晶硅还原炉体，该炉体设置有进气口和排气口，其特征在于，所述进气口设置于所述炉体的底部，所述排气口设置于所述炉体的顶部。

2.根据权利要求1所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述炉体的顶部设置有至少五个排气口。

3.根据权利要求1所述的多晶硅还原装置，其特征在于，还包括尾气运输管道，所述排气口在所述多晶硅还原炉体的外部与所述尾气运输管道连通，且所述尾气运输管道在所述多晶硅还原炉体的外部与所述进气口连通，形成循环利用回路。

4.根据权利要求1所述的多晶硅还原装置，其特征在于，还包括尾气运输管道、三氯氢硅运输管道、氢气运输管道、文丘里引射器，

所述三氯氢硅运输管道的一端用于输入原料气三氯氢硅，该三氯氢硅运输管道的另外一端与所述文丘里引射器的吸入口连接；

所述尾气运输管道的一端与所述排气口连接，该尾气运输管道的另外一端在其主管道上分为两个支路管道，这两个支路管道分别为第一尾气运输支路管道和第二尾气运输支路管道，所述第一尾气运输支路管道与所述文丘里引射器的吸入口连接，所述第二尾气运输支路管道用于将尾气排放于所述多晶硅还原装置外；

所述氢气运输管道的一端用于输入氢气，该氢气运输管道的另外一端与所述文丘里引射器的吸入口连接,

所述文丘里引射器的出口与所述多晶硅还原炉体的进气口连接。

5.根据权利要求4所述的多晶硅还原装置，其特征在于，还包括静态混合器，所述文丘里引射器包括第一文丘里引射器和第二文丘里引射器；所述氢气运输管道在其主管道上分为两个支路管道，这两个支路管道分别为第一氢气运输支路管道和第二氢气运输支路管道，

所述三氯氢硅运输管道的另外一端与所述第一文丘里引射器的吸入口连接；

所述第一尾气运输支路管道与所述第二文丘里引射器的吸入口连接；

所述氢气运输管道的另外一端在与所述文丘里引射器的吸入口连接之间的总管道上分为两个支路管道，所述第一氢气运输支路管道与所述第一文丘里引射器的吸入口连接，所述第二氢气运输支路管道与所述第二文丘里引射器的吸入口连接；

所述第二氢气运输支路管道上设置有控制其内部的氢气流量大小的阀门；

所述第一文丘里引射器的出口和所述第二文丘里引射器的出口分别与所述静态混合器的一端连接，该静态混合器的另外一端与所述多晶硅还原炉体的进气口连接。

6.根据权利要求4或5所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述用于输入原料气三氯氢硅的三氯氢硅运输管道的一端上设置有第一流量计；所述用于输入氢气的氢气运输管道的一端上设置有第二流量计。

7.根据权利要求4或5所述的多晶硅还原装置，其特征在于，还包括用于回收尾气的回收单元，所述第二尾气运输支路管道与所述回收单元连接。

8.根据权利要求4所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述尾气运输管道与所述三氯氢硅运输管道互相接触，进行换热。

9.根据权利要求8所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述三氯氢硅运输管道呈螺旋状设置于所述尾气运输管道的外部，形成第一换热器。

10.根据权利要求4所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述尾气运输管道与所述氢气运输管道互相接触，进行换热。

11.根据权利要求10所述的多晶硅还原装置，其特征在于，所述氢气运输管道呈螺旋状设置于所述尾气运输管道的外部，形成第二换热器。