[发明专利]电极结构及其制作方法、触控元件及触控显示器在审

专利信息
申请号: 201410043291.2 申请日: 2014-01-29
公开(公告)号: CN104714681A 公开(公告)日: 2015-06-17
发明(设计)人: 张高德;王裕铭;陈銮英;陈于堂 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电极 结构 及其 制作方法 元件 显示器
【权利要求书】:

1.一种电极结构,其特征在于,包括:

一基板;以及

一图案化导电层,设置于该基板上,具有一平均高度h1以及一表面粗糙度h2,其中该平均高度h1包含该表面粗糙度h2,且0.01≤h2/hl≤0.2,该图案化导电层包括多条曲线以及多个接合点,其中至少三条该些曲线从同一该接合点分别朝向不同方向延伸,且每一曲线是由边长D所形成的正多边形的外切圆的1/n圆弧所形成,其中外切圆的半径r由下列公式定义:

r=(D/2)sin(180/n),

而曲线长S=2πr/n且

500≤d2/h2≤5000,其中d为每一该些曲线的线宽,n为该正多边形的边数。

2.根据权利要求1所述的电极结构,其中0.01≤h2/hl≤0.1。

3.根据权利要求1所述的电极结构,其中1500≤d2/h2≤5000。

4.根据权利要求1所述的电极结构,其中该边长D的范围为0.8mm≤D≤3mm。

5.根据权利要求4所述的电极结构,其中陔边长D的范围为0.8mm≤D≤1.2mm。

6.根据权利要求1所述的电极结构,其中该正多边形为正三角形、正四边形、正五边形、正六边形、正八边形、正十边形及正十二边形中的任一个。

7.根据权利要求1所述的电极结构,其中该些曲线的线宽d的范围为10μm≤d≤50μm。

8.根据权利要求1所述的电极结构,其中该些曲线的线宽d的范围为12μm≤d≤20μm。

9.根据权利要求1所述的电极结构,其中该表面粗糙度h2的范围为50nm≤h2≤260nm。

10.一种触控元件,其特征在于,包括:

根据权利要求1~9中任一项所述的一电极结构;以及

一覆盖板,覆盖于该电极结构上。

11.一种触控显示器,其特征在于,包括:

一显示面板;以及

根据权利要求10所述的一触控元件,设置于该显示面板上。

12.根据权利要求11所述的触控显示器,其中该显示面板为液晶显示面板、电泳显示面板、发光二极管显示面板、等离子体显示面板、场发射显示面板或有机发光二极管显示面板。

13.一种电极结构的制作方法,其特征在于,包括:

提供一基板;以及

在该基板上以凹版印刷的方式形成一图案化导电层,其中使该图案化导电层具有一平均高度h1以及包含于该平均高度h1中的一表面粗糙度h2,且0.01≤h2/hl≤0.2,该图案化导电层包括多条曲线以及多个接合点,其中至少三条该些曲线从同一该接合点分别朝向不同方向延伸,且每一曲线是由边长D所形成的正多边形的外切圆的1/n圆弧所形成,其中外切圆的半径r由下列公式定义:

r=(D/2)sin(180/n),

而曲线长S=2πr/n,且

500≤d2/h2≤5000,其中d为每一该些曲线的线宽,n为该正多边形的边数。

14.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中0.01≤h2/hl≤0.1。

15.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中1500≤d2/h2≤5000。

16.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中该边长D的范围为0.8mm≤D≤3mm。

17.根据权利要求16所述的电极结构的制作方法,其中该边长D的范围为0.8mm≤D≤1.2mm。

18.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,其中该正多边形为正三角形、正四边形、正五边形、正六边形、正八边形、正十边形及正十二边形中的任一个。

19.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,包括使该些曲线的线宽d的范围为10μm≤d≤50μm。

20.根据权利要求19所述的电极结构的制作方法,其中该些曲线的线宽d的范围为12μm≤d≤20μm。

21.根据权利要求13所述的电极结构的制作方法,包括使该表面粗糙度h2的范围为50nm≤h2≤260nm。

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