[发明专利]电路板、光电子构件和光电子构件的装置在审

专利信息
申请号: 201410041542.3 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN103972361A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 马丁·鲁道夫·贝林格;斯特凡·格勒奇 申请(专利权)人: 欧司朗股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/62;H01L31/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;张春水
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 电路板 光电子 构件 装置
【权利要求书】:

1.一种用于光电子半导体芯片(2)的电路板(1),具有:

-导电的第一金属薄膜(11);

-第一电绝缘薄膜(12);

-导电的第二金属薄膜(13),其中

-所述第一电绝缘薄膜(12)在所述第一金属薄膜(11)的上侧上施加到所述第一金属薄膜(11)上并且与所述第一金属薄膜机械地连接,

-所述第一电绝缘薄膜(12)具有留空部(15),在所述留空部中露出所述第一金属薄膜(11),

-所述留空部(15)设置用于,将所述光电子半导体芯片在所述留空部(15)之内导电地固定在所述第一金属薄膜(11)上,

-将所述第二金属薄膜(13)施加在所述第一电绝缘薄膜(12)的背离所述第一金属薄膜(11)的上侧上并且与其机械地连接,

-所述第一电绝缘薄膜(12)至少在所述留空部(15)的区域中不具有所述第二金属薄膜(13),并且

-所述第二金属薄膜(13)设置用于电接触所述光电子半导体芯片(2)。

2.根据上一项权利要求所述的电路板(1),其中所述第一金属薄膜(11)和所述第二金属薄膜(13)经由粘接剂(16)与电绝缘的薄膜(12)连接。

3.根据上述权利要求中的任一项所述的电路板(1),其中所述第一电绝缘薄膜(12)除所述留空部(15)之外在所述第一金属薄膜的上侧上完全地覆盖所述第一金属薄膜(11),其中所述留空部(15)在横向方向(l)上完全地被所述第一电绝缘薄膜(12)的材料包围。

4.根据上述权利要求中的任一项所述的电路板(1),其中所述第一金属薄膜(11)和所述第二金属薄膜(13)分别由铝薄膜形成。

5.根据上述权利要求中的任一项所述的电路板(1),其中所述第一金属薄膜(11)和所述第二金属薄膜(13)分别具有位于至少20μm和至多400μm之间的厚度。

6.根据上述权利要求中的任一项所述的电路板(1),其具有第二电绝缘薄膜(14),所述第二电绝缘薄膜在所述第一金属薄膜(11)的背离所述第一电绝缘薄膜(12)的下侧上施加到所述第一金属薄膜(11)上并且与其机械地连接。

7.根据上一项权利要求所述的电路板(1),其中所述第二电绝缘薄膜(14)在其背离所述第一金属薄膜(11)的下侧上具有粘接层(17)。

8.一种光电子构件(3),具有:

-根据上述权利要求中的任一项所述的电路板(1);和

-光电子半导体芯片(2),其中

-所述光电子半导体芯片(2)在所述留空部(15)之内导电地固定在所述第一金属薄膜(11)上,并且

-所述光电子半导体芯片(2)与所述第二金属薄膜(13)导电地连接。

9.根据上一项权利要求所述的光电子构件(3),其中所述光电子半导体芯片(2)经由固定在所述光电子半导体芯片(2)和所述第二金属薄膜(13)上的接触元件、尤其是接合线(21)与所述第二金属薄膜(13)导电地连接。

10.根据上两项权利要求中的至少一项所述的光电子构件(3),其中所述光电子半导体芯片(2)被浇注体(22)包围,其中所述浇注体(22)与所述第一金属薄膜(11)和所述第一电绝缘薄膜(12)直接地接触。

11.一种光电子构件的装置,具有

-根据上三项权利要求中的至少一项所述的至少两个光电子构件(3),其中

-所述光电子构件(3)中的第二个设置在所述光电子构件(3)中的第一个上,使得所述第二光电子构件的第一金属薄膜(11)局部地遮盖所述第一光电子构件的第二金属薄膜(13),并且这两个金属薄膜(11,13)相互导电地且机械地连接,其中所述第一光电子构件和第二光电子构件电串联。

12.根据上一项权利要求所述的装置,其中所述光电子构件(3)中的三个或更多个彼此相叠地设置,其中所述光电子构件(3)分别经由在所述光电子构件中的一个的第一金属薄膜(11)与直接位于其下的所述光电子构件的第二金属薄膜(13)的导电的并且机械的连接而电串联。

13.根据上两项权利要求中的至少一项所述的装置,其中所有光电子构件(3)在连接区域(31)之内彼此重叠,并且所述光电子构件(3)的所述光电子半导体芯片(2)不重叠。

14.根据上三项权利要求中的至少一项所述的装置,其中所述光电子半导体芯片(2)沿着至少一条假设的线、尤其是假设的圆(K)或假设的螺旋线(S)设置。

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