[发明专利]用于多焦点超声治疗的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201410041501.4 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN104027893B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: C·D·艾姆利 申请(专利权)人: 奥赛拉公司
主分类号: A61N7/00 分类号: A61N7/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 武晨燕;迟姗
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 焦点 超声 治疗 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种从单个超声换能器同时聚焦多个间隔开的热凝聚点以用于美容处理的美学成像与处理系统,所述系统包含:

超声探头,其被配置为用于对一个或多个焦深处的多个位置处的组织进行超声成像与超声处理,所述超声探头包含:

单个超声换能器模块,其被配置为用于耦合至所述超声探头,

其中所述单个超声换能器模块包含单个超声换能器,所述单个超声换能器被配置为借助包含振幅调制、极化和相位偏移的群组中的至少一个将产生多个间隔开的热凝聚点的超声处理施加在所述一个或多个焦深处的所述多个位置处的组织,

其中所述单个超声换能器被配置为通过应用治疗超声而在组织中产生同时的多个间隔开的热凝聚点,

第一开关,其可操作地控制超声成像功能,以便提供超声成像;

第二开关,其可操作地控制超声处理功能,以便提供所述超声处理;以及

移动机构,其被配置为以至少一个序列的各个热美容处理区域引导超声处理;

其中所述单个超声换能器模块被配置为可操作地耦合至所述第一开关、所述第二开关和所述移动机构中的至少一个;

控制模块,所述控制模块包含处理器,和

显示器,所述显示器包含用于控制所述单个超声换能器模块的图形用户界面,

其中所述单个换能器模块包含单个压电元件,其中所述单个压电元件的多个部分被配置为响应于施加到所述单个换能器模块的电场而产生多个对应的压电元件变化,

其中所述极化包括从所述单个压电元件的多个部分提供的不同的极化矩,

其中所述单个压电元件的多个部分的相位偏移通过以不同相位施加到所述单个压电元件的多个部分的对应信号而被激励。

2.根据权利要求1所述的美学成像与处理系统,其中所述多个位置被布置为基本线性序列,位于所述热美容处理区域内。

3.根据权利要求1所述的美学成像与处理系统,其中第一组位置位于第一美容处理区域内,而第二组位置位于第二美容处理区域内,所述第一区域不同于所述第二区域。

4.根据权利要求3所述的美学成像与处理系统,其中所述第一美容处理区域包含所述第一组位置的基本线性序列,而所述第二美容处理区域包含所述第二组位置的基本线性序列。

5.根据权利要求1所述的美学成像与处理系统,其中所述单个换能器模块被配置为应用使用振幅调制的超声处理,由此所述单个换能器模块的所述多个部分被配置为以多个声强度的振幅发射超声处理,其中第一振幅不同于第二振幅。

6.根据权利要求1所述的美学成像与处理系统,其中所述单个换能器模块被配置为应用超声处理相位偏移,由此所述单个换能器模块的所述多个部分被配置为以多个声强度的相位发射超声处理,其中第一相位不同于第二相位。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的美学成像与处理系统,其中所述单个换能器模块被配置为:

应用使用振幅调制的超声处理,由此所述单个换能器模块的所述多个部分被配置为以多个声强度的振幅发射超声处理,其中第一振幅不同于第二振幅;以及

应用超声处理相位偏移,由此所述单个换能器模块的所述多个部分被配置为以多个声强度的相位发射超声处理,其中第一相位不同于第二相位。

8.根据权利要求7所述的美学成像与处理系统,其中所述多个声强度的相位包含离散的相位值。

9.根据权利要求1至6中的任一项所述的美学成像与处理系统,其中所述多个压电元件变化包含元件膨胀和元件收缩中的至少一个。

10.根据权利要求1-6中任一项所述的美学成像与处理系统,其中所述单个换能器模块的至少一部分被配置为以两个或更多个声强度的振幅发射超声处理,并且其中由所述单个换能器模块的所述至少一部分发射的超声处理的振幅随着时间变化。

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