[发明专利]凹版制版中二次补充雕刻方法

权利要求书

1.一种凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：依次包括以下步骤：

（a）确定版辊起雕的横向位置：将需要补雕的版辊装在电雕机上，移动雕针使其与试雕块横向第一排网格中心重合；

（b）确定版辊起雕的周向位置：调整雕针与试雕块横向第一排网格的距离使其与原版辊上的试雕块横向第一排网格的距离一致；

（c）补雕：在需要补雕的版辊上补充雕刻所要增加的图案。

2.根据权利要求1所述的凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：所述步骤（a）中，将需要补雕的版辊表面铬层清理干净后再装在电雕机上。

3.根据权利要求1所述的凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：所述步骤（a）中，将雕针探出在试雕块附近划出针痕，测量针痕与横向第一排网格的距离，根据测量的距离移动雕针。

4.根据权利要求1所述的凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：所述步骤（b）中，分别测量雕针与试雕块横向第一排网格、原版辊上的试雕块横向第一排网格的距离，根据测量的距离调整雕针。

5.根据权利要求1所述的凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：所述步骤（c）中，先在图案的马克线上取一个像素雕刻在版辊上，当像素的横向和周向与版辊上的重合时，再在需要补雕的版辊上补充雕刻所要增加的图案。

6.根据权利要求1所述的凹版制版中二次补充雕刻方法，其特征在于：所述的雕刻方法还包括：（d）版面检查：检查版辊雕刻的图案是否有漏缝或重叠现象。