[发明专利]阴阳铜箔电路板的制作方法有效
申请号: | 201410040505.0 | 申请日: | 2014-01-27 |
公开(公告)号: | CN103796437A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 袁处;李艳国;陈蓓 | 申请(专利权)人: | 广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;宜兴硅谷电子科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 谢伟;曾旻辉 |
地址: | 510663 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阴阳 铜箔 电路板 制作方法 | ||
1.一种阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一种阴阳铜箔板件,对该阴阳铜箔板件依次进行贴感光膜、曝光和显影的蚀刻前操作;
在经过蚀刻前操作的阴阳铜箔板件的第一面上贴上保护膜,再对阴阳铜箔板件的第二面进行蚀刻操作;
将阴阳铜箔板件第一面上的保护膜去掉,并在阴阳铜箔板件的第二面贴上保护膜,再对阴阳铜箔板件的第一面进行蚀刻操作;
将阴阳铜箔板件第二面上的保护膜去掉,并将阴阳铜箔板件上留有的感光膜进行退膜,获得阴阳铜箔电路板。
2.根据权利要求1所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在贴保护膜后,进行空压操作。
3.根据权利要求2所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在进行空压操作的步骤中,空压的压力设为1.5-2.5kg,空压的温度设为100℃-120℃。
4.根据权利要求1所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在蚀刻的步骤中,蚀刻速度控制为0.8-5m/min,并将蚀刻面朝下。
5.根据权利要求4所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,对10Z以上的底铜进行至少两次蚀刻。
6.根据权利要求1至5任一项所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,所述的保护膜为聚酯保护膜。
7.根据权利要求1至5任一项所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在贴感光膜的步骤中,贴膜压力设为60+/-5PSI,贴膜温度设为110+/-10℃,贴膜速度设为1.2-1.6mm/min。
8.根据权利要求1至5任一项所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在贴感光膜的步骤中,感光膜采用LDI专用干膜;在曝光的步骤中,采用LDI曝光,且曝光能级设为7-8级。
9.根据权利要求1至5任一项所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在显影的步骤中,显影前作显影点测试,显影点设为40%-60%,并将显影速度设为2-3m/min。
10.根据权利要求1至5任一项所述的阴阳铜箔电路板的制作方法,其特征在于,在对感光膜进行退膜的步骤中,退膜速度控制为1.0-4.5m/min。
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