[发明专利]一种γ-AlON透明陶瓷粉体的制备方法有效
申请号: | 201410038534.3 | 申请日: | 2014-01-24 |
公开(公告)号: | CN103755350A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 单英春;许建鑫;徐久军;王光 | 申请(专利权)人: | 大连海事大学 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/626 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 赵淑梅;李馨 |
地址: | 116026 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 alon 透明 陶瓷 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种γ-AlON透明陶瓷粉体的制备方法,具体涉及的是一种α-Al2O3碳热还原制备纯相γ-AlON透明陶瓷粉体的方法,属于透明陶瓷粉体制备技术领域。
背景技术
γ-AlON是一种多晶透明陶瓷材料,具有各向同性的立方结构,同时兼具优良的光学和力学性能,可广泛用于各行各业,包括航空航天,国防和安全,半导体,能源和消费产品,使其在军民领域都有着广阔的应用前景。
高温固相反应和还原氮化法是目前制备AlON粉体的两类主要方法。其中固相反应法虽工艺简单,但由于其要求原料AlN和Al2O3粉必须高纯超细,而目前高纯AlN主要依赖进口,不仅成本高而且反应速率不易控制。与之相比还原氮化铝法的主要原料Al2O3性能稳定且价格便宜,还原剂可以是C、Al、NH3、H等,在这些还原剂中,C的产品质量稳定可靠,且以C作为还原剂的还原氮化反应工艺可控性好,同时安全、环保,因此碳热还原氮化法制备高纯AlON粉具有非常好的应用前景。该工艺的优点是原料纯度高、粒度小、成本低,所制备的AlON粉体纯度高,易实现批量化生产。
由于γ-Al2O3具有多孔结构及高比表面积的特点,使其成为碳热还原法制备AlON粉体的主要原料(碳热还原法合成AlON粉体的研究.田庭燕,杜洪兵,姜华伟等.硅酸盐通报.2009,28(5):1093-1096;AlON透明陶瓷的制备.王士维,袁贤阳,张芳等.中国空间科学学会空间材料专业委员会2009学术交流会.59-62;碳热还原氮化工艺制备AlON透明陶瓷.刘学建,袁贤阳,张芳等.无机材料学报.2010,25(7):678-682;AlON粉体制备及透明陶瓷的烧结.张芳,王士维,张昭等.稀有金属材料与工程.2009,38:403-406;Synthesis ofγ-AlON Powders by a Combinational Method of Carbothermal Reduction and Solid-State Reaction.Xinayang Yuan,Xuejian Liu,Fang Zhang etal.J.Am.Ceram.Soc..2010,93(1):22-24;Highly Transparent AlON Pressurelessly Sintered from Powder Synthesized by a Novel Carbothermal Nitridation Method.J.Am.Ceram.Soc..2012,95(9):2801-2807;中国专利201010190470.0;中国专利201210289659.4;USPat.No.4,686,070)。但是,正是由于γ-Al2O3的这种多孔结构和高比表面积的特征,使其具有非常强的吸附能力,及易吸附环境中的杂质和气体,一方面使粉末易受到污染,另一方面使制备过程中排出吸附气体困难,且排出吸附气体所需要的抽真空时间特别长,效率非常低,更重要的是吸附气体排出速度很难控制,如果气体排出速度过快极易使粉末飞散,不仅使工作效率大大降低,而且还会对设备造成严重损害。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连海事大学,未经大连海事大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410038534.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。