[发明专利]一种单层结构的倒置顶发射有机电致发光器件有效
| 申请号: | 201410035606.9 | 申请日: | 2014-01-24 | 
| 公开(公告)号: | CN103746079A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 | 
| 发明(设计)人: | 陈平;段羽;薛凯文;赵毅;刘式墉 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 | 
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/50;H01L51/54 | 
| 代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 张景林;王恩远 | 
| 地址: | 130012 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 单层 结构 置顶 发射 有机 电致发光 器件 | ||
技术领域
本发明属于有机光电子器件技术领域,具体涉及一种单层结构的倒置顶发射有机电致发光器件。
背景技术
有机电致发光器件(OLED)具有很多优点,比如固态发光、能耗小、主动发光、视角广、响应速度快、易于实现柔性显示、成本低等,在彩色显示、固态照明等领域具有巨大的应用价值,国际上很多研究机构都投入了大量的人力物力,推动了OLED技术的迅猛发展。
OLED按光的取出方式可分为底发射OLED和顶发射OLED。底发射OLED存在显示发光面积与像素的驱动电路相互竞争的矛盾,但若采用顶发射OLED,由于光的取出端是顶端,就可以获得更高的开口率,有利于实现高显示亮度、高分辨率的有机发光显示。此外,对于使用n沟道TFT的有源有机发光显示,OLED需采取底电极为阴极的倒置结构。因此若想利用OLED的低成本、高开口率及易于实现大面积显示的优势,对倒置顶发射OLED开展研究是十分必要的。
基于倒置顶发射OLED潜在的应用前景,国际上很多科研机构相继开展了这方面的工作。1997年,美国普林斯顿大学的S.R.Forrest研究组[Appl.Phys.Lett.70,(1997)2954.]报道了采用镁、银合金为阴极的倒置顶发射OLED,但该器件的性能较差,外量子效率不到1%。2003年,德国的W.Kowalsky等人[Appl.Phys.Lett.82,(2003)284.]采用Au(100nm)/Mg(100nm)为底阴极,制备了基于Alq3发光的倒置顶发射绿光OLED,器件的效率达到3.9cd/A。2002年,德国德累斯顿大学的K.Leo研究组[Appl.Phys.Lett.81,(2002)922.]制备了基于p-i-n结构的倒置顶发射OLED,绿光器件在4V下的亮度可达100cd/m2。2011年,他们又报道了[Appl.Phys.Lett.98,(2011)083304.]采用高效率黄光磷光材料的倒置顶发射OLED,通过对整个器件退火处理,发光区内的载流子达到平衡,器件的外量子效率达到15%,2.9V下的亮度达到1000cd/m2。
但由于制备顺序与传统的正置结构OLED不一样,导致在倒置OLED中电子的注入、传输相对于空穴更困难,电子、空穴不平衡的现象更严重,这也是为什么倒置OLED的性能相对于正置OLED较差的原因。目前来看,国际上报道的关于倒置顶发射OLED的研究大多集中在如何提高电子的注入与传输,比如设计新的阴极及阴极修饰层、采用p-i-n结构等方面。考虑到单层结构OLED的有机功能层一般只能传输某一种载流子,因此若在倒置顶发射OLED中引入电子迁移率较高的单层有机材料作为母体材料,不但可以简化器件的制备过程,而且通过器件结构设计,引入一种俘获空穴的有机掺杂剂,就可以解决倒置顶发射OLED中电子与空穴不平衡的问题,但这种结构的倒置顶发射OLED器件在国际上还未见报道。
发明内容
本发明针对影响倒置顶发射OLED性能的关键因素,提供了一种单层结构的倒置顶发射OLED器件。
不同于传统的由空穴传输层、发光层、电子传输层组成的多层有机功能层,本发明所述结构的倒置顶发射OLED位于阴极、阳极之间的有机功能层为单层结构。该器件依次由衬底、阴极、单层有机功能层、透明阳极组成:
衬底;衬底材料可以是玻璃、硅等刚性衬底,或者是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲脂等柔性衬底。
阴极;阴极为钼/低功函数金属层所构成的复合阴极。钼层的厚度为10~200nm,低功函数的金属可为Al、Ca、Ba、Sm等金属,或者为其它阴极材料,厚度为1~100nm。也可在有机功能层与复合阴极中间插入Al2O3、CsF、CaF2、MgF2、NaF、LiF、Cs2CO3等阴极修饰层来提高电子的注入,阴极修饰层的厚度为0.5~5nm,可通过热蒸发、溅射等工艺制备。
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