[发明专利]一种可降低行程的离子束加工方法有效
申请号: | 201410029914.0 | 申请日: | 2014-01-22 |
公开(公告)号: | CN103771729A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 戴一帆;周林;李圣怡;解旭辉;廖文林;史宝鲁 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | C03C19/00 | 分类号: | C03C19/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人: | 赵洪;周长清 |
地址: | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号中*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 行程 离子束 加工 方法 | ||
1.一种可降低行程的离子束加工方法,其特征在于,基于五轴加工设备,当加工所需的X轴和Y轴行程大于机床行程时,摆动A和B两个旋转轴来移动离子束加工点,利用极限行程进行加工,同时对旋转轴和Z轴运动坐标进行修正,并对驻留时间进行修正。
2.根据权利要求1所述的可降低行程的离子束加工方法,其特征在于,具体步骤为:
(1)建立加工路径;根据待加工光学元件的形状和尺寸建立离子束修形加工路径;其中,设抛光路径上第i点Pi在工件坐标系的坐标为
(2)计算加工路径上各点的驻留时间和机床运动坐标;
(3)修正机床运动坐标;
(4)数控修形加工:根据步骤(3)计算得到的加工点机床运动坐标,对待加工光学元件的光学表面进行数控修形加工。
3.根据权利要求2所述的可降低行程的离子束加工方法,其特征在于,所述步骤(2)的具体步骤为:
(2.1)计算加工路径上各点Pi处的加工驻留时间
(2.2)计算加工路径上各点Pi处的机床运动坐标:
计算公式为:
和
其中,
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