[发明专利]基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量方法及装置有效
| 申请号: | 201410025577.8 | 申请日: | 2014-01-21 |
| 公开(公告)号: | CN103791845A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
| 发明(设计)人: | 郜江瑞;孙恒信;刘奎;刘尊龙;郭鹏亮;张俊香 | 申请(专利权)人: | 山西大学 |
| 主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 朱源 |
| 地址: | 030006*** | 国省代码: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 激光 高阶横模 光学 横向 位移 测量方法 装置 | ||
1.一种基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量方法,其特征在于,包括以下步骤:(a)采用一束n阶模式的厄米高斯激光作为信号光(2),采用n+1阶模式的厄米高斯激光作为本地光(5),所述n≧1;(b)使信号光(2)产生横向平移量d;(c)基于平衡零拍探测原理,将本地光(5)与发生平移后的信号光即待测光(4)各分成强度相等的两束光,等分后的每一束本地光(5)均与等分后的一束待测光(4)重合,形成两束新的激光;(d)分别采集两束新的激光的强度信号,将强度信号转换为相应的电信号后相减;将相减后得到的电信号转换为相应的功率信号,该功率信号的表达式为:
V-=NLo[4(n+1)Nd2/w02+δ2Xn+1],
式中NLo和N分别为本地光(5)和待测光(4)的平均光子数,w0为光束腰斑大小,δ2Xn+1为量子噪声项;根据上式即可求出d的值。
2.如权利要求1所述的基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量方法,其特征在于,所述信号光(2)采用1阶模式即HG10模的厄米高斯激光;本地光(5)采用2阶模式即HG20模的厄米高斯激光。
3.一种基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量装置,用于实现如权利要求1所述的方法,其特征在于,包括一个激光器(7)以及位于激光器(7)出射光路上的模式转换系统(1);模式转换系统(1)的信号光(2)的出射光路上设有平移调制系统(3);还包括一个平衡零拍探测系统(6),所述平衡零拍探测系统(6)的一个入射端口位于平移调制系统(3)的出射光路上;平衡零拍探测系统(6)的另一个入射端口位于模式转换系统(1)的本地光(5)的出射光路上;平衡零拍探测系统(6)的信号输出端连接有一个频谱仪(11)。
4.如权利要求3所述的基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量装置,其特征在于,所述平衡零拍探测系统(6)包括一个50/50光学分束器(8);所述待测光(4)与本地光(5)垂直相交且分别入射至50/50光学分束器(8);所述50/50光学分束器(8)位于待测光(4)与本地光(5)光路的交点上且与两光路所成直角的角平分线重合;待测光(4)与本地光(5)入射至50/50光学分束器(8)上的位置应保证待测光(4)的透射光与本地光(5)的反射光共线,且待测光(4)的反射光与本地光(5)的透射光共线;50/50光学分束器(8)两个反射光路上分别设有一个平衡探测器(9);两个平衡探测器(9)的信号输出端共同连接有一个减法器(10);减法器(10)的信号输出端与频谱仪(11)相连接。
5.如权利要求3或4所述的基于激光高阶横模的光学横向小位移的测量装置,其特征在于,所述平移调制系统(3)包括一个压电陶瓷(12)以及与压电陶瓷(12)相连接的信号发生器(13);所述压电陶瓷(12)表面有一个反射面与压电陶瓷(12)运动方向垂直的反射镜(14)且该反射镜(14)的法线与由模式转换系统(1)出射的信号光(2)呈45度角。
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