[发明专利]一种TEM样品的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410022539.7 申请日: 2014-01-17
公开(公告)号: CN104792583B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 齐瑞娟;于会生 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 李仪萍
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 目标结构 悬浮薄膜 制备 样品制备过程 观测结果 纳米操作 制备过程 离子束 铜支架 小电流 上端 减薄 探针 粘接 切割 保证 损害
【权利要求书】:

1.一种TEM样品的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)提供一MEMS样品,所述MEMS样品包含基体和位于基体上与基体相连接的悬浮薄膜结构;

2)使用束流小于100pA的离子束对所述悬浮薄膜结构中的目标结构进行L型或U型切割;

3)使用纳米操作仪的探针粘接所述目标结构;

4)将目标结构与悬浮薄膜结构的连接处切断;

5)将步骤4)之后获得的目标结构转移到一个铜支架上,并使用束流为40~80pA的离子束对目标结构进行细抛减薄,得到所需的TEM样品。

2.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤2)中所述目标结构进行L型或U型切割后,仍保证其有一面与悬浮薄膜结构相连接。

3.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤3)中所述探针通过铂金或者钨沉积的方式与目标结构连接在一起。

4.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤4)中使用离子束将目标结构与悬浮薄膜结构连接处切断。

5.根据权利要求4所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤4)中所述使用离子束的束流小于100pA。

6.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤5)中将所述步骤4)之后获得的目标结构转移到铜支架上的方式为原位吸取。

7.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤5)中所述步骤4)之后获得的目标结构细抛减薄后的厚度d小于或等于0.1μm。

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