[发明专利]一种TEM样品的制备方法有效
申请号: | 201410022539.7 | 申请日: | 2014-01-17 |
公开(公告)号: | CN104792583B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 齐瑞娟;于会生 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 目标结构 悬浮薄膜 制备 样品制备过程 观测结果 纳米操作 制备过程 离子束 铜支架 小电流 上端 减薄 探针 粘接 切割 保证 损害 | ||
1.一种TEM样品的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)提供一MEMS样品,所述MEMS样品包含基体和位于基体上与基体相连接的悬浮薄膜结构;
2)使用束流小于100pA的离子束对所述悬浮薄膜结构中的目标结构进行L型或U型切割;
3)使用纳米操作仪的探针粘接所述目标结构;
4)将目标结构与悬浮薄膜结构的连接处切断;
5)将步骤4)之后获得的目标结构转移到一个铜支架上,并使用束流为40~80pA的离子束对目标结构进行细抛减薄,得到所需的TEM样品。
2.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤2)中所述目标结构进行L型或U型切割后,仍保证其有一面与悬浮薄膜结构相连接。
3.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤3)中所述探针通过铂金或者钨沉积的方式与目标结构连接在一起。
4.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤4)中使用离子束将目标结构与悬浮薄膜结构连接处切断。
5.根据权利要求4所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤4)中所述使用离子束的束流小于100pA。
6.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤5)中将所述步骤4)之后获得的目标结构转移到铜支架上的方式为原位吸取。
7.根据权利要求1所述的TEM样品的制备方法,其特征在于:步骤5)中所述步骤4)之后获得的目标结构细抛减薄后的厚度d小于或等于0.1μm。
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