[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法

权利要求书

1.一种照明光学设备，使照明光对于形成有图案的掩膜进行照明，所述照明光学设备的特征在于包括：

空间光调制器，含有：沿预定表面布置且设置在所述照明光的光路中的多个反射表面，对于所述多个反射表面进行个别控制，而使所述照明光学设备的照明光瞳中的所述照明光分布于从所述照明光学设备的光轴离开的区域；

偏振单元，配置于所述照明光的光路中，变换所述照明光的偏振状态；

蝇眼透镜，配置于所述空间光调制器与所述照明光瞳之间的所述照明光的光路中；

第1反射表面，将入射的照明光朝向所述空间光调制器反射；以及

第2反射表面，将经由所述空间光调制器入射的照明光反射，

所述第1反射表面和所述第2反射表面是与所述多个反射表面不同的表面，

其中，所述蝇眼透镜以所述蝇眼透镜的后侧焦点位置与所述照明光瞳一致的方式配置在所述光路中，

所述偏振单元在以偏振方向为预定一方向的线性偏振光作为主成分的偏振状态下入射到所述偏振单元的所述照明光在所述照明光瞳成为圆周偏振状态的方式，变换所述照明光的偏振状态，

所述第1反射表面、所述空间光调制器以及所述第2反射表面被配置成：沿着行进方向入射到所述第1反射表面的照明光在经由所述空间光调制器之后，被所述第2反射表面朝向与所述行进方向平行的方向反射。

2.根据权利要求1所述的照明光学设备，其特征在于，

所述空间光调制器是：以使所述照明光瞳中的所述照明光分布为多极状区域或环形形状区域的方式，而控制所述多个反射表面。

3.根据权利要求2所述的照明光学设备，其特征在于，

所述空间光调制器是：以使所述照明光瞳中的所述照明光在以所述光轴作为中心而在第1方向上隔开间隔的两个区域、以及在与所述第1方向垂直的第2方向上隔开间隔的两个区域中进行分布的方式，而控制所述多个反射表面。

4.根据权利要求1所述的照明光学设备，其特征在于，

含有第1偏振单元和第2偏振单元这两个偏振单元，

含有第1空间光调制器和第2空间光调制器这两个空间光调制器，

所述第1偏振单元以来自分光器的所述照明光中的、入射到所述第1空间光调制器的反射表面的第1光束成为以第1线性偏振光作为主成分的偏振状态，所述第2偏振单元以来自所述分光器的所述照明光中的、入射到所述第2空间光调制器的反射表面的第2光束成为以第2线性偏振光作为主成分的偏振状态，

所述第1空间光调制器使来自所述第1偏振单元的所述第1光束分布于所述照明光瞳的第1区域，所述第2空间光调制器使来自所述第2偏振单元的所述第2光束分布于与所述第1区域不同的所述照明光瞳的第2区域。

5.根据权利要求4所述的照明光学设备，其特征在于，

利用所述第1空间光调制器的反射表面反射所述第1光束、且利用所述第2空间光调制器的反射表面反射所述第2光束。

6.根据权利要求4所述的照明光学设备，其特征在于，

所述偏振单元设置在所述第1光束及所述第2光束的至少一方的光路中。

7.根据权利要求6所述的照明光学设备，其特征在于，

所述空间光调制器是：以使所述照明光在所述蝇眼透镜的入射表面被分布成多极状或环形形状的方式，而控制所述多个反射表面。

8.根据权利要求1所述的照明光学设备，其特征在于，

所述偏振单元包含半波片或光学旋转器。

9.根据权利要求1所述的照明光学设备，其特征在于，

所述偏振单元配置在所述空间光调制器的入射侧中的所述照明光的光路中。

10.一种曝光设备，将形成在掩膜的图案曝光到基板，所述曝光设备的特征在于包括：

能够移动的台，支持所述基板；

权利要求1到9中任一权利要求所述的照明光学设备，对所述图案进行照明；以及

投影光学系统，将使用所述照明光学设备而被照明的所述图案的像，形成到被支持在所述台的所述基板上。

11.根据权利要求10所述的曝光设备，其特征在于，

所述照明光学设备的所述照明光瞳与所述投影光学系统的入射光瞳配置在互相共轭的位置。