[发明专利]缺陷检查装置及缺陷检查方法

说明书

技术领域

本发明涉及检查被检查物的内层缺陷的装置及方法。

背景技术

已知有如下技术，即，向板状（片状）物品照射光，利用照相机接收该光的透过光及反射光来得到图像，基于该图像进行图像处理，由此检测缺陷的技术。在此，在被检查物为在液晶显示器上使用的偏振片（光学滤波器）等的情况下，要求判别缺陷存在于表面还是存在与内层中。这是因为，对偏振片等，以在其表面粘贴有保护板的状态下进行检查，但最终保护板会被剥离，所以即使在保护板表面上有缺陷也不成为问题。

在专利文献1中记载有以错开焦点位置的方式拍摄表层和内层，基于这些多个图像区分表面的缺陷和内层的缺陷的技术。然而，需要对表层位置和内层位置进行多次拍摄，从而存在检查需要时间这样的问题。另外，需要用于针对各位置对焦的机构，因而导致成本上升。另外，由于利用焦点位置进行判别，因而焦点位置精度尤为重要，从而需要抑制被检查物的位置差异（偏差）。因此，用于抑制位置偏差的工作台导致成本上升，并且为了抑制位置偏差而需要是被检查物静止，从而导致检查周期变长。

在专利文献2中记载有基于进行同轴照明拍摄得到的图像和进行扩散照明拍摄得到的图像来区分表面的缺陷和内层的缺陷的技术。然而，由于需要滑动照明系统来进行二次拍摄，因而存在检查需要时间这样的问题。另外，需要使照明系统滑动的机构，从而导致成本上升。进而，由于需要驱动如照明系统这样的大的构件，因而需要维护驱动部。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005－98970号公报

专利文献2：日本特开2001－108639号公报

发明内容

本发明是鉴于如上所述的问题点而做出的，其目的在于，以低成本且以高速地进行能够判别表面缺陷和内层缺陷的检查。

为了解决上述的问题，本发明的一个技术方案的缺陷检查装置，用于检查板状的被检查物的缺陷，

该缺陷检查装置具有：

第一照射单元，其向所述被检查物照射第一光，

第二照射单元，其向所述被检查物照射第二光，

拍摄单元，其获取与所述第一光的反射光及所述第二光的透过光的强度相对应的拍摄数据，

检测单元，其基于由所述拍摄单元获取的所述被检查物的相同位置上的所述反射光及所述透过光的强度，来检测所述被检查物的内层缺陷；

以使所述拍摄单元对所述第二光的间接透过光进行拍摄的方式，配置所述拍摄单元和所述第二照射单元。

即，将第二照射单元和拍摄单元的位置关系优选地设定为，使从第二照射单元照射出的光的正透过光不入射至拍摄单元，而使间接透过光入射至拍摄单元。间接透过光是指，在被检查物上存在的缺陷上进行反射或散射而从正透过方向偏离的透过光。于是，能够实现对缺陷的暗视场拍摄，从而能够提高动态范围（dynamic range）。在该情况下，所检测出的透过了内层缺陷的间接透过光比透过了表面缺陷的间接透过光更强。

通过采用如上所述的结构，能够基于与反射光的强度相对应的拍摄数据和与间接透过光的强度相对应的拍摄数据，来判别内层缺陷。即，能够了解到在检测出强的反射光或间接透过光的部分存在某种缺陷，并且针对相同的缺陷，若间接透过光强度大于反射光强度，则能够将该缺陷判别为内层缺陷。

如上所述，在拍摄第二光的间接透过光的情况下，优选使第二光的波长较短。这是因为，越是短波长的光，在缺陷上的散射效果越大，因此能够提高透过了缺陷的透过光强度。此外，就第二光而言，越是短的波长则散射效果越大，但若考虑能够得到光源及受光元件的难度，则优选地利用蓝色光（波长450nm左右）。

本发明的另一技术方案的缺陷检查装置，用于检查板状的被检查物的缺陷，其特征在于，

该缺陷检查装置具有：

第一照射单元，其向所述被检查物照射第一光，

第二照射单元，其向所述被检查物照射第二光，

拍摄单元，其获取与所述第一光的反射光及所述第二光的透过光的强度相对应的拍摄数据，

检测单元，其基于由所述拍摄单元获取的所述被检查物的相同位置上的所述反射光及所述透过光的强度，来检测所述被检查物的内层缺陷；

以使所述拍摄单元对所述第二光的正透过光进行拍摄的方式，配置所述拍摄单元和所述第二照射单元；

在所述第二照射单元和所述被检查物之间，以及所述拍摄单元和所述被检查物之间，分别设有透光轴相互垂直的偏振滤波器。