[发明专利]方管质量检测装置有效
| 申请号: | 201410005586.0 | 申请日: | 2014-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN103743625A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
| 发明(设计)人: | 赵亦希;康稳;李淑慧;于忠奇;马越峰;晏培杰;晁灿 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
| 主分类号: | G01N3/08 | 分类号: | G01N3/08 |
| 代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭国中 |
| 地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 质量 检测 装置 | ||
技术领域
本发明涉及方管压扁实验模具技术领域,具体地,涉及一种方管质量检测装置。
背景技术
方形管材作为基本型材在工业生产与建筑行业应用十分广泛。但是目前还没有专门针对方管的质量检测标准,其质量检测方法基本沿用圆管标准。压扁实验是其中一项重要检测手段,根据GB/T 246-2007,方法是将金属管压扁,来观察其开裂缺陷。方管压扁实验存在的一个特有问题是实验时方管须保证沿对角线方向下压,因此需要设计专门的方管压扁实验模具。
经对现有技术的文献检索发现,中国专利申请公布号:CN 103143629 A,专利名:钢管压扁模具及钢管压扁设备及钢管压扁方法。该专利自述为:包括钢管端部压扁装置,液压装置和牵引装置,可以一次完成压扁操作。但是该压扁装置只能用于圆管的压扁生产,并非实验装置,且不适用于方管的压扁。
中国专利申请公布号:CN 103048188 A,专利名:方管压扁试验定位装置。该专利自述为:包括基座、标尺、V型卡尺和连接件,可以直接将方管定位于压机工作台上。但是该装置仅具有定位功能,且在压扁实验前需要将该装置取出,压扁实验时仍需另外设计相应模具。
发明内容
本发明针对现有技术存在的上述不足,提供了一种方管质量检测装置,该装置能够满足压扁实验中的定位、数据采集等功能,同时,还具有体积小、针对性强、操作简单方便等优点。
本发明是通过以下技术方案实现的。
一种方管质量检测装置,包括:基座、下模、上模以及V型定位块装置,所述下模设置于基座上,所述上模与下模适配连接,所述V型定位块装置设置于下模的上表面。
优选地,所述基座为矩形方块,其上设有4个用于模具装夹的凹槽。
优选地,所述下模包括由两个L型块相互配合构成的矩形块、插板、上围块以及内置的若干弹簧立柱结构,所述矩形块固定于基座上,矩形块的中心处形成轴向通孔I,所述上围块设置于L型块上,上围块的中心处与轴向通孔I相对应处设有轴向通孔II,所述弹簧立柱结构轴向设置于轴向通孔I和轴向通孔II内;所述上围块上设有用于限制V型定位块位置的限位插销孔以及用于与上模合模的导孔;所述V型定位块装置设置于上围块的上表面且位于弹簧立柱结构的弹簧上。
优选地,所述下模还包括插板,所述插板设置于轴向通孔I处。
优选地,所述V型定位块装置包括两个V型定位块,所述两个V型定位块并列设置且两者之间设有一定间距;其中,每一个V型定位块均设有左右对称的45度张角,且具有弧形倒角,每一个V型定位块的两侧均设有限位槽。
优选地,所述上模的下表面设有传感器以及用于与下模合模的导柱。
优选地,所述上模还设有用于放置传感器的空腔。
工作时,首先将本发明提供的方管质量检测装置置于工作台上,上下模分别与压机的上下压板紧固连接,将待实验方管放置在两个V型定位块中。调节方管使其与V型定位块贴合,V型定位块的两侧设计成弧形,能够在方管变形后依然保证与方管的线接触,可以满足在方管压扁实验中方管变形后的定位。完成设置之后可以进行下压,直到方管被压到所需要的程度。移开上压板,取出被压方管,观察其是否开裂,以判断方管质量。
与现有技术相比,本发明具有如下技术特点:
1、本发明结构简单,加工、装配、拆卸都较为便捷;
2、本发明可以在压扁过程中保持对变形方管的定位,通用性强;
3、本发明内置传感器,能方便的采集压扁过程中的压力等信息,能很好的用于方管质量检测。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明整体模具结构示意图;
图2为下模结构示意图;
图3为V型定位块结构示意图;
图4为上模与传感器示意图;
图中:1为基座,2为下模,3为V型定位块,4为上模,5为L型块,6为插板,7为弹簧立柱结构,8为上围块,9为限位插销孔,10为导孔,11为限位槽,12为导柱,13为传感器。
具体实施方式
下面对本发明的实施例作详细说明:本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
请同时参阅图1至图4。
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