[发明专利]非晶陶瓷涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201410004147.8 | 申请日： | 2014-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN103952695B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 薛卫昌;李丰;杨立梅 | 申请（专利权）人： | 江苏天元激光科技有限公司;南京丰强纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C04B35/10;C04B35/50;C04B35/48 |
| 代理公司： | 常州市科谊专利代理事务所32225 | 代理人： | 孙彬 |
| 地址： | 212300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷 涂层 制备 方法 | ||
1.一种非晶陶瓷涂层的制备方法，其特征在于该方法的步骤如下：将激光熔覆用陶瓷材料加工成粉末状后，通过激光设备采用激光熔覆工艺熔覆到基体上，形成主体部分具有非晶结构的非晶陶瓷涂层；其中，激光熔覆用陶瓷材料的组份和各组份的重量百分比如下：
三氧化二铝：20％～75％；
氧化锆10％～40％；
稀土氧化物10％～60％；
其中，采用同步送粉法工艺将粉末状的激光熔覆用陶瓷材料通过气流送入激光辐照区，从而使其与基体表面伴随激光扫描过程同时熔化形成冶金结合。
2.根据权利要求1所述的非晶陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述的稀土氧化物为氧化钇或氧化镧或氧化钆或氧化铈或氧化镝或氧化钕或氧化铕中的一种或两种以上的混合物。
3.根据权利要求1所述的非晶陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述的非晶陶瓷涂层具有非晶结构的基体，并且该基体上均匀分布纳米晶结构。
4.根据权利要求1所述的非晶陶瓷涂层的制备方法，其特征在于：所述的非晶陶瓷涂层的厚度为50μm～20mm。
5.根据权利要求1所述的非晶陶瓷涂层的制备方法：其特征在于：所述的激光设备采用CO2激光器或固体激光器或光纤激光器。
6.一种非晶陶瓷涂层的制备方法，其特征在于该方法的步骤如下：将激光熔覆用陶瓷材料加工成粉末状后，通过激光设备采用激光熔覆工艺熔覆到基体上，形成主体部分具有非晶结构的非晶陶瓷涂层；其中，激光熔覆用陶瓷材料的组份和各组份的重量百分比如下：
三氧化二铝：20％～75％；
氧化锆10％～40％；
稀土氧化物10％～60％；
其中，采用预置涂层法将粉末状的激光熔覆用陶瓷材料预先粘结或涂覆在基体表面，形成预置层，然后采用高能激光束对预置层进行扫描熔化，从而达到预置层与基体形成冶金结合；所述预置涂层法采用热喷涂方法或粘结法，热喷涂方法为等离子喷涂方法或火焰喷涂方法。
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