[发明专利]一种具有祛痘及修复功能的护肤组合物

说明书

技术领域

    本发明涉及护肤产品领域，具体是一种有祛痘及修复功能的护肤组合物。

背景技术

青春痘是毛囊及皮脂腺阻塞、发炎所引发的一种慢性炎症性皮肤病，常见于青春发育期的青年男女，主要发生在面部、颈部、胸背部、肩膀和上臂，形成丘疹，中医称“粉刺”，西医病名为“痤疮”。青春期雄性激素增多，皮脂腺分泌增多，同时使毛囊、皮脂腺异角化过度，角质层脱落的扁平的死细胞落下毛囊漏斗部，与皮脂结合，产生混合物。如果这些混合物不能自由排出皮肤表面，而淤积于毛囊内形成脂栓。当这些异常角化细胞聚集，下部漏斗膨胀时就形成成熟的粉刺。皮脂被毛囊中存在的细菌分解，产生脂肪酸，后者刺激毛囊引起炎症，致使毛囊壁损伤破裂，毛囊内容物进入真皮，从而引起毛囊周围程度不等的炎症反应。而祛痘后皮肤经常会留下痘痕，痘痕是机体对组织损伤产生的一种修复反应，当皮肤的损伤深及真皮或大面积的表皮缺损，该部位的表皮不能再生，将由真皮纤维细胞，胶原以及增生的血管所取代，这样就出现了痘痕。

青春痘的发生机理，与以下三大因素有关 ：

(1) 对雄性激素类固醇 ( 如睾酮、去氢表雄酮、羟孕酮 ) 反应的原因不明性加剧，致使皮脂产生增多。

(2) 痤疮丙酸杆菌增生。此菌为毛囊正常菌群组成，它以皮脂为其作用机质，并使之部分转化为游离脂肪酸。痤疮丙酸菌还可激活补体通路，至少产生两种趋化因子，促使炎症发生。

(3) 囊上皮细胞数量增多，并有黏着性，形成毛囊潴留性角化过度。后者发生原因仍未明晰。痤疮丙酸菌产生游离脂肪酸，可能是青春痘形成的主要因素。

目前市面上流行的祛痘产品存在以下问题 ：1、易引起皮肤过敏，对皮肤刺激性大 ；2、加入化学抑菌剂破坏皮肤正常菌群 ；3、加入一些禁用物质如氯霉素等激素 ；4、加入重金属物质；5、祛痘后留下疤痕（痘印）。

发明内容

本发明为了解决现有技术的问题，提供了一种不含有害物质的护肤组合物，具有祛痘和修复疤痕的效果。

本发明包括组份A和组份B，组份A为桦叶汁，占总质量的80%-98%，其余为组份B；组份B为虾青素、磷脂类和多元醇的组合物，其中虾青素质量为组份B质量的0.01%-10%，磷脂类质量为组份B质量的1%－15%，其余为多元醇。

为了延长桦叶汁保质期，所述组份A中的桦树汁经过钴－60射线照射。

优选的，所述的钴－60照射剂量为0.01KGy-0.6KGy。

进一步优选，所述的钴－60照射剂量为0.2KGy-0.5KGy。

所述组份B中的虾青素采用藻源左旋结构虾青素。

所述组份B中的磷脂类为软磷脂或氢化软磷脂。

所述组份B中的多元醇为甘油或丙二醇。

所述组份B中的各成分通过高压制备而成。

    本发明有益效果在于：

1、使用对人体无害的桦叶汁作为祛痘成分，同时具有祛痘和修复疤痕的效果，祛痘后不会留下疤痕。

2、桦叶汁采用特定钴－60辐照，延长了桦叶汁的保质期。

3、采用磷脂包裹虾青素，增强了虾青素的稳定性和水溶性。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

实施例1

    每100g护肤组合物中，包含组份A桦叶汁80g以及高压制备而成的组份B。组份B包括虾青素0.002g、软磷脂0.2g、19.798g的甘油。其中的桦叶汁经过0.35KGy的钴－60射线照射。

实施例2

    每100g护肤组合物中，包含组份A桦叶汁98g以及高压制备而成的组份B。组份B包括虾青素0.2g、氢化软磷脂0.3g以及11.5g的甘油。其中的桦叶汁经过0.35KGy的钴－60射线照射。

实施例3

    每100g护肤组合物中，包含组份A桦叶汁90g以及高压制备而成的组份B。组份B包括虾青素0.5g、氢化软磷脂1g以及8.5g的丙二醇。其中的桦叶汁经过0.35KGy的钴－60射线照射。

实施例4

    每100g护肤组合物中，包含组份A桦叶汁90g以及高压制备而成的组份B。组份B包括虾青素0.5g、氢化软磷脂1g以及8.5g的丙二醇。其中的桦叶汁经过0.01KGy的钴－60射线照射。

实施例5