[发明专利]转移工艺液体的方法和布置、工业设施及其布局简化方法有效
申请号: | 201410002024.0 | 申请日: | 2014-01-03 |
公开(公告)号: | CN103911895B | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | R.维萨拉;V.维克曼 | 申请(专利权)人: | 苏尔寿管理有限公司 |
主分类号: | D21C9/00 | 分类号: | D21C9/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李涛,何逵游 |
地址: | 瑞士温*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转移 工艺 液体 方法 布置 工业 设施 及其 布局 简化 | ||
1.一种从洗浆和增稠装置向后续工艺阶段转移工艺液体的方法,所述方法包括以下步骤:
• 从洗浆和增稠装置(10)释放处于第一稠度的工艺液体,
• 将所述工艺液体引导至立管(18),
• 将所述工艺液体稀释至第二稠度即MC稠度,
• 为所述立管(18)提供用于测量所述立管(18)中的工艺液体的表面液位的机构(24),所述测量机构(24)具有带有上表面液位控制极限(26)和下表面液位控制极限(28)的表面液位控制范围,用于在使用时将所述工艺液体的表面液位维持在所述上表面液位控制极限与所述下表面液位控制极限之间,
• 借助于布置成与设置于所述立管(18)中的释放出料开口(20)流体连通的泵(22)从所述立管(18)释放处于第二稠度的工艺液体,
其特征在于以下进一步的步骤:
• 为处于所述立管(18)中的表面液位控制范围中的工艺液体提供平均稠度即第三稠度,所述第三稠度是所述第二稠度的至少1.5倍。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第三稠度是所述第二稠度的至少2倍。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在所述立管(18)中在所述表面液位控制范围的下表面液位控制极限(28)下方进行所述工艺液体向所述第二稠度的稀释。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,借助于具有一个或多个叶片或者叶板(44、54)的旋转装置和朝所述释放出料开口(20)供给所述工艺液体的旋转装置中的一个进行稀释。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,借助于使用具有位于所述表面液位控制范围之内的一个或多个叶片(46)的旋转装置、γ射线和过程层析成像中的一个,来测量所述立管(18)中的工艺液体的表面液位。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一稠度为20%~50%,并且所述第二稠度高于8%。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一稠度为高于18%,并且所述第二稠度在6%~15%之间。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于以下两者中的至少一个:借助于稀释液体加热所述工艺液体以及借助于所述稀释液体向所述工艺液体添加化学制品。
9.一种用于从洗浆和增稠装置向后续工艺阶段转移工艺液体的装置,所述装置包括:所述洗浆和增稠装置(10),从所述洗浆和增稠装置(10)以第一稠度释放所述工艺液体;用于稀释所述工艺液体的机构;所述工艺液体被释放至的立管(18);用于测量所述立管(18)中的所述工艺液体的表面液位的机构(24);用于从所述立管(18)释放经过稀释的工艺液体的释放出料开口(20);布置在立管(18)底部处的泵(22),所述泵与所述释放出料开口(20)流体连通用于进一步转移处于第二稠度的工艺液体,所述测量机构设置有表面液位控制范围,所述表面液位控制范围具有上表面液位控制极限(26)和下表面液位控制极限(28),其特征在于,用于稀释工艺液体的机构,其包括用于向与所述工艺液体连通的立管(18)的截面扩散和供给稀释液体的机构(30、44、54),并且所述用于稀释工艺液体的机构(30、44、54)被定位且大小做成使得所述表面液位控制范围中的工艺液体的平均稠度即第三稠度是所述第二稠度的至少1.5倍。
10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述稀释机构是用于向所述工艺液体引入稀释液体的一个或多个喷嘴或者开口。
11.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述一个或多个喷嘴(30)或者开口被布置成以下中的一个:所述立管(18)的周缘和延伸到所述立管(18)中的管的端部。
12.如权利要求11所述的装置,其特征在于,所述管是混合机构的旋转中空轴。
13.如权利要求12所述的装置,其特征在于,所述旋转中空轴设置有用于引入所述稀释液体和/或使所述稀释液体与所述工艺液体混合的叶片或者叶板(44、54)。
14.如权利要求12或13所述的装置,其特征在于,所述旋转中空轴从上方延伸到所述立管(18)中并设置有定位在所述表面液位控制范围之内的叶片(46),所述叶片(46)被用于测量所述立管(18)中的表面液位。
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