[发明专利]一种基于光谱分析的六氟化硫气体取样装置

权利要求书

1.一种基于光谱分析的六氟化硫气体取样装置，其特征在于，主要由取样室、第一滤光镜片、第二滤光镜片、第一硅胶圈、第二硅胶圈、进气口、滤网、过滤器、出气口和气体收纳袋组成：

所述取样室为一次注模成型的气室，其设有阻碍反射涂层、光入射面和光出射面；取样室顶端靠近第一滤光镜片设有进气口，进气口内设置有过滤器及倾斜设置在过滤器上方的滤网；取样室底端靠近第二滤光镜片设有出气口，出气口与气体收纳袋连接；

所述第一滤光镜片通过第一硅胶圈与所述取样室的光入射面相连；

所述第二滤光镜片通过第二硅胶圈与所述取样室的光出射面相连；

所述取样室内腔壁表面设有阻碍反射涂层。

2.根据权利要求1所述的基于光谱分析的六氟化硫气体取样装置，其特征在于，所述过滤器为碳化硅过滤器，其上方设置的滤网表面与水平面之间的倾斜角的角度范围为15°～45°。

3.根据权利要求1所述的基于光谱分析的六氟化硫气体取样装置，其特征在于，所述阻碍反射涂层为由硅、锗或硒化锌制成的涂层。