[发明专利]用于以改进的安全性来投射图像的方法和装置有效
| 申请号: | 201380078516.1 | 申请日: | 2013-06-26 |
| 公开(公告)号: | CN105874787B | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
| 发明(设计)人: | J.施拉赫特;N.阿贝勒 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
| 主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 杨美灵,付曼 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 改进 安全性 用于 投射 图像 方法 装置 | ||
1.一种使用包括MEMS镜的投影装置以改进的安全性来投射图像的方法,其中所述MEMS镜围绕一个或多个振荡轴进行振荡以跨显示屏幕扫描来自一个或多个激光器的光,以便将定义图像的像素投射到显示屏幕上,所述方法包括下列步骤:
(a) 选择所述投影装置的激光类;
(b) 对于图像中的预定数量的黑像素、对所述所选激光类计算最大可到达发射极限与距离之间的关系;
(c) 每次对于所述图像中的不同预定数量的黑像素多次重复步骤(b),以便对所述所选激光类提供最大可到达发射极限与距离之间的多个关系,其中各关系用于所述图像中的不同预定数量的黑像素;
(d) 确定显示屏幕与所述投影装置之间的所述距离;
(e) 选择将要由所述投影装置投射到所述显示屏幕上的图像的预期最大可到达发射极限;
(f) 从最大可到达发射极限与距离之间的所述多个关系中选择在步骤(d)所确定的所述距离包含等于在步骤(e)所选择的所述预期最大可到达发射极限的最大可到达发射极限的关系;以及
(g) 对那个所选关系识别所述图像中的所述预定数量的黑像素;
(h) 修改定义将要由所述投影装置投射的所述图像的像素流,使得所述像素流提供有在步骤(g)所识别的所述预定数量的黑像素。
2.如权利要求1所述的方法,包括下列步骤:
(b2) 将所述最大可到达发射极限转换成亮度极限,以便对于所述图像中的所述预定数量的黑像素、对所述所选激光类提供亮度极限与距离之间的关系;
并且其中步骤(c)包括每次对于所述图像中的不同预定数量的黑像素多次重复步骤(b)和(b2),以便对所述所选激光类提供亮度极限与距离之间的多个关系,其中各关系用于所述图像中的不同预定数量的黑像素;
并且其中步骤(e)包括选择将要由所述投影装置投射到所述显示屏幕上的图像的预期亮度;
并且其中步骤(f)包括从亮度极限与距离之间的所述多个关系中选择在步骤(e)所确定的所述距离包含等于在步骤(f)所选择的所述预期亮度的亮度极限的关系。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中,修改所述像素流的步骤包括下列步骤:修改所述像素流,使得在所述显示屏幕上投射时在所述图像的相对侧或者其周边周围提供所述预定数量的黑像素。
4.如权利要求1或2所述的方法,还包括下列步骤:当所述MEMS镜改变其围绕振荡轴的振荡方向时,在所述投影装置中的所述MEMS镜接收所述像素流中提供的所述黑像素的每个,使得在所述显示屏幕上投射时,所述黑像素出现在所述图像的相对侧。
5.如权利要求1或2所述的方法,其中,所述MEMS镜配置成围绕两个振荡轴进行振荡,并且所述方法包括下列步骤:当所述MEMS镜改变其围绕所述两个振荡轴的每个的振荡方向时,在所述投影装置中的所述MEMS镜接收所述像素流中提供的所述黑像素的每个,使得所述黑像素出现在所述显示屏幕上投射的所述图像的周边周围。
6.如权利要求1或2所述的方法,其中,修改定义将要由所述投影装置投射的所述图像的所述像素流以使得所述像素流提供有所述预定数量的黑像素的步骤包括将所述像素流中的像素转换为黑像素的步骤。
7.如权利要求1或2所述的方法,其中,修改定义将要由所述投影装置投射的所述图像的所述像素流以使得所述像素流提供有所述预定数量的黑像素的步骤包括压缩所述像素流中的像素并且然后将黑像素添加到所述压缩像素流的步骤。
8.如权利要求1或2所述的方法,其中,修改所述像素流以使得定义将要由所述投影装置投射的所述图像的所述像素流以使得所述像素流提供有所述预定数量的黑像素的步骤包括下列步骤:
将黑像素添加到像素流以形成包括图像定义像素和添加黑像素的修改像素流,并且然后增加所述MEMS镜的扫描角。
9.如权利要求8所述的方法,还包括修改所述修改像素流中的所述图像定义像素的每个的时长以补偿所述MEMS镜的振荡速度的步骤。
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