[发明专利]在原子层沉积反应器中形成衬底卷材轨迹

权利要求书

1.一种方法，包括：

通过使第一组支撑辊关于第二组支撑辊移动，将具有重复图案的 衬底卷材轨迹形成到原子层沉积反应器的反应容器中；以及

当所述轨迹已经被形成时由所述第一组支撑辊和所述第二组支 撑辊来支撑所述衬底卷材。

2.根据权利要求1所述的方法，包括使所述第一组支撑辊从所述 第二组支撑辊的第一侧移动至所述第二组支撑辊的另一侧。

3.根据权利要求2所述的方法，包括：通过由所述第一组支撑辊 将所述衬底卷材推动至所述第二组支撑辊的所述另一侧，形成褶状形 式的轨迹。

4.根据任一前述权利要求所述的方法，包括在所述反应容器内形 成由反应容器盖、反应容器侧壁和所形成的衬底卷材轨迹限定的三维 原子层沉积流动容积。

5.根据任一前述权利要求所述的方法，包括在沉积期间经由穿过 所述第一组支撑辊行进的路线将气体从反应空间中去除。

6.根据任一前述权利要求所述的方法，其中衬底卷材源辊被集成 到所述沉积反应器的室盖中。

7.根据任一前述权利要求所述的方法，其中所述衬底卷材穿过反 应室盖被馈送到反应室或反应空间中。

8.一种原子层沉积反应器，包括：

被配置成提供反应空间的反应容器；

第一组支撑辊；以及

第二组支撑辊，其中

所述第一组支撑辊和所述第二组支撑辊被配置成通过使所述第 一组支撑辊关于所述第二组支撑辊移动而将具有重复图案的衬底卷 材轨迹形成到所述反应容器中；以及所述第一组支撑辊和所述第二组 支撑辊被配置成当所述轨迹已经被形成时支撑所述衬底卷材。

9.根据权利要求8所述的沉积反应器，包括被配置成使所述第一 组支撑辊从所述第二组支撑辊的第一侧移动至所述第二组支撑辊的 另一侧的机构。

10.根据权利要求8所述的沉积反应器，其中所述第一组支撑辊 和所述第二组支撑辊被配置成通过由所述第一组支撑辊将所述衬底 卷材推动至所述第二组支撑辊的所述另一侧而形成褶状形式的轨迹。

11.根据任一前述权利要求8至10所述的沉积反应器，其中沉积 反应器被配置成在沉积期间经由穿过所述第一组支撑辊行进的路线 将气体从所述反应空间中去除。

12.根据任一前述权利要求8至11所述的沉积反应器，其中衬底 卷材源辊被集成至所述沉积反应器的室盖中。

13.根据任一前述权利要求8至12所述的沉积反应器，其中所述 沉积反应器的室盖包括被配置成将所述衬底卷材穿过所述室盖馈送 到所述反应室或反应空间中的馈穿部。