[发明专利]用于减少反应器系统中的腐蚀的系统和方法

权利要求书

1.一种超临界水气化处理的方法，包括：

将具有水的浆料提供给多个系统组件中的至少一个系统组件；

在保持所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的压力处于第一压力或者低于所述第一压力的同时，使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的温度升高至第一温度；

在所述第一温度，使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的压力升高至第二压力；

在第一时间段内保持所述第一温度和所述第二压力；

使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的温度和压力分别升高至第二温度和第三压力；以及

在第二时间段内保持所述第二温度和第三压力。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述多个系统组件包括至少一个加热器、至少一个预加热器、至少一个泵、至少一个反应器容器、至少一个换热器、至少一个气体/液体分离器或者其任意组合。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述超临界气化处理是以下之一：超临界煤气化处理、超临界生物质气化处理以及超临界废物氧化处理。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述水的离子产物保持低于10^-22mol²/l²。

5.如权利要求1所述的方法，其中，当使所述多个系统组件中的所述至少一个系统组件中的温度升高至所述第一温度时，所述水的离子产物低于10^-18mol²/l²。

6.如权利要求1所述的方法，其中，当使所述多个系统组件中的所述至少一个系统组件中的温度升高至所述第一温度时，所述水的离子产物低于10^-24mol²/l²。

7.如权利要求1所述的方法，其中，当使所述多个系统组件中的所述至少一个系统组件中的温度升高至所述第一温度时，所述水的离子产物低于10^-28mol²/l²。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述第一温度为674开尔文至775开尔文。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述第一压力为7兆帕斯卡至10兆帕斯卡。

10.如权利要求1所述的方法，其中所述第一压力为8.6兆帕斯卡。

11.如权利要求1所述的方法，其中当保持所述第一温度和所述第二压力时，所述水的离子产物低于10^-23mol²/l²。

12.如权利要求1所述的方法，其中所述第二压力为23兆帕斯卡至28兆帕斯卡。

13.如权利要求1所述的方法，其中所述第二压力为25兆帕斯卡。

14.如权利要求1所述的方法，还包括：在使所述多个系统组件中的所述至少一个系统组件中的温度升高至所述第二温度且将所述压力升高至所述第三压力之前，使溶解于所述水中的盐沉淀。

15.如权利要求14所述的方法，还包括：利用重力馈送收集机构来收集沉淀的盐。

16.如权利要求1所述的方法，其中，当保持所述第二温度和所述第三压力时，所述水的离子产物低于10^-22mol²/l²。

17.如权利要求1所述的方法，其中所述第二温度为775开尔文至1475开尔文。

18.如权利要求1所述的方法，其中所述第二温度为925开尔文。

19.如权利要求1所述的方法，其中所述第三压力为32兆帕斯卡至38兆帕斯卡。

20.如权利要求1所述的方法，其中所述第三压力为25兆帕斯卡。

21.如权利要求1所述的方法，其中所述第三压力基本等于所述第二压力。

22.如权利要求1所述的方法，其中所述第三压力为35兆帕斯卡。