[发明专利]流体处理装置和流体处理装置组件

说明书

技术领域

本发明涉及流体处理装置，特别是涉及使用处理介质对流体进行处理的流体处理装置及流体处理装置组件。

背景技术

常见的流体处理装置通常利用一种或几种处理介质来处理诸如水、乙醇等各种流体。当流体穿经流体处理装置容纳的处理介质时，流体中包含的杂质、污染物和某些组分等将通过与处理介质接触进而发生物理或化学作用，从而被去除。现以作为流体处理装置的一个示例即淋浴过滤器为例进行说明。

参见图1，例如电淋浴热水器901通常会连接于淋浴过滤器902之后，以对供应到电淋浴热水器901之前的水进行除氯等处理。

通常的流体处理装置的设计中：在工作期间，穿经处理介质的流体是以倾向于压缩处理介质的方向流动。因此，任何被处理介质除去的污垢或其它杂质会被吸附在处理介质中并不断积累，直至最后阻塞处理介质或恶化处理介质的处理性能。一旦发生这种情况，处理介质的使用寿命将结束，就需要更换新的处理介质。因此，处理介质的使用寿命短、使用量大。

因在工作期间处理介质被压缩，因此来水穿经处理介质的阻力会增加，水压有损失，出水水流减小。特别在处理介质使用一段时间但未更换之前，吸附了大量污垢的处理介质会进一步增加阻力，压力损失增加，出水水流减小。另外，至上向下的来水含有的污垢可能会被捕捉于处理介质床的顶部，会封闭介质床，这导致了巨大的压力损失，水流明显减小(如需获得与减小前相同大小的水流，就必须增加水压)。这种情况，在水压较低的地区表现更为突出。例如巴西等地区，很多使用者是从位于建筑物顶部的水箱中被供应淋浴用水，这种情况下，建筑物的顶层房间可能仅有1.5米(位于淋浴管上方的水的高度)的水头压力。可想而知，在1.5米水压的情况下，再加上淋浴过滤器中的聚集了污垢的处理介质所施加的阻力，出水水流可能会小至无法进行正常淋浴的程度。

另外，淋浴器使用要求的最小水流是每分钟3升。在例如巴西等水压较低的地区，具有前述通常流体处理设计的淋浴过滤器，在开始水压为4米时，也仅能在每分钟处理4升水，处理水量小，不利于淋浴器的使用。

另外，公开号为US5,503,742的美国专利申请中揭示了一种淋浴过滤器组件。参见图2，该淋浴过滤器组件具有两个独立、易于拆分开的壳部903、904。当使用一段时后，可将内部过滤部件905取出来颠倒方向之后再重新插入壳部903、904中，以进行反冲操作，从而来防止淋浴过滤器被阻塞和对穿经水流的限制。但是，这样的反冲操作不仅十分烦琐，也不是有效的，因为结合至处理介质表面的污垢和杂质并不容易通过这种简单的反冲操作而被清除。

发明内容

本发明要解决的一个技术问题是提供一种流体处理装置及流体处理装置组件，处理介质不易堵塞、使用寿命大幅延长、使用量大幅减小、流体压力损失小、不限制出水水流、处理流体量大，并且具有优异的净化作用。

本发明要解决的一个技术问题是提供一种流体处理装置，使用操作简单，能够简单地在反冲操作模式和正常工作模式之间进行切换，反冲操作十分简易，并且能够有效地清除结合在处理介质表面的污垢和杂质，进一步延长处理介质的使用寿命。

本发明要解决的一个技术问题是提供一种流体处理装置，流体几乎没有压力损失，在水压特低的情况下，仍然能够提供优异的处理性能，特别适用于超低水压地区使用。

本发明要解决的一个技术问题是提供一种流体处理装置，可采用两种以上的处理介质，能够在除氯之前进行预处理，大幅提升除氯性能。

本发明的第一方面提供了一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质以与所述处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与所述穿透壁邻接的介质床层。

本发明的第一方面还提供了一种流体处理装置组件，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，其特征是：所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将容纳在所述处理腔室内的至少部分处理介质以与所述处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与所述穿透壁邻接的介质床层。

根据以上的流体处理装置及其组件，能得到如下有益的技术效果，具有显著的进步：