[发明专利]用于利用带电粒子束的倾斜或掠射研磨操作的基准设计

权利要求书

1.一种用于利用带电粒子束分析样本的方法，所述方法包括：

将带电粒子束引导向样本的第一表面；

研磨第一表面以暴露在样本中的第二表面，其中研磨在离子源远侧的第二表面的端部到比在离子源近侧的第一表面的端部大的相对于参考深度的深度；

将带电粒子束引导向第二表面以形成第二表面的一个或多个图像；

通过检测电子束与第二表面的相互作用，形成感兴趣的多个相邻特征的横截面的图像；

将横截面的图像装配成感兴趣的特征中的一个或多个的三维模型。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

研磨第二表面以暴露第三表面，第三表面在样本内比第二表面更深；

将带电粒子束引导向第三表面以形成第三表面的一个或多个图像；

通过检测电子束与第三表面的相互作用，形成感兴趣的多个相邻特征的横截面的图像。

3.如权利要求2所述的方法，其中根据第二表面形成的图像和根据第三表面形成的图像被假设为形成感兴趣的特征中的一个或多个特征的三维模型。

4.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中由离子束执行研磨。

5.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中利用电子束形成图像。