[发明专利]石墨烯制造用铜箔和石墨烯的制造方法在审
| 申请号: | 201380073417.4 | 申请日: | 2013-02-19 |
| 公开(公告)号: | CN104995135A | 公开(公告)日: | 2015-10-21 |
| 发明(设计)人: | 古曳伦也;坂口和彦 | 申请(专利权)人: | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;C25D1/04 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 蔡晓菡;李炳爱 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 石墨 制造 铜箔 方法 | ||
1.石墨烯制造用铜箔,其表面粗糙度Rz为0.5μm以下,表面中(111)面的比例为60%以上,该铜箔由Cu镀覆层和/或Cu溅射层构成。
2.权利要求1所述的石墨烯制造用铜箔,其是在聚酰亚胺膜的经等离子体处理的面形成剥离层,在该剥离层上形成所述Cu镀覆层和/或所述Cu溅射层,然后将所述聚酰亚胺膜和所述剥离层剥离而制造的。
3.权利要求2所述的石墨烯制造用铜箔,其中,所述剥离层为镍、铬、钴、镍合金、铬合金、钴合金中的任1种。
4.石墨烯的制造方法,其使用了权利要求1~3中任一项所述的石墨烯制造用铜箔,该方法具有:
在规定的室内配置进行了加热的所述石墨烯制造用铜箔的同时,供给氢气和含碳气体,在所述石墨烯制造用铜箔的所述铜镀覆层的表面形成石墨烯的石墨烯形成步骤;和
一边在所述石墨烯的表面层叠转印片,将所述石墨烯转印至所述转印片上,一边将所述石墨烯制造用铜箔蚀刻除去的石墨烯转印步骤。
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