[发明专利]用于制造砜聚合物膜的方法

权利要求书

1.一种用于制造砜聚合物膜的方法，包括以下步骤：

(i)制备包含以下各项的砜聚合物溶液，即溶液(SP)：

-至少一种砜聚合物，即聚合物(P)；

-包含以下各项的溶剂混合物，即混合物(M)：

(a)二酯(I’_de)中的至少一种和至少一种二酯(I″_de)，有或没有至少一种具有式(II_de)的二酯；或

(b)酯酰胺(I′_ea)中的至少一种和至少一种酯酰胺(I″_ea)，有或没有至少一种具有式(II_ea)的酯酰胺；或

(c)酯酰胺(I′_ea)的至少一种、至少一种二酰胺(I′_da)、至少一种酯酰胺(I″_ea)以及至少一种二酰胺(I”_da)，有或没有至少一种具有式(II_ea)的酯酰胺和/或至少一种具有式(II_da)的二酰胺；或

(d)(a)与(b)和/或(c)的组合，

其中：

-(I′_de)是R¹-OOC-A_MG-COO-R²

-(I′_ea)是R¹-OOC-A_MG-CO-NR³R⁴

-(I′_da)是R⁵R⁶N-OC-A_MG-CO-NR⁵R⁶

-(I″_de)是R¹-OOC-A_ES-COO-R²

-(I″_ea)是R⁵R⁶N-OC-A_ES-CO-NR⁵R⁶；并且

-(II_de)是R¹-OOC-(CH₂)₄-COO-R²，

-(II_ea)是R¹-OOC-(CH₂)₄-CO-NR³R⁴，

-(II_da)是R⁵R⁶N-OC-(CH₂)₄-CO-NR⁵R⁶，

其中：

-A_MG具有式MG_a，即-CH(CH₃)-CH₂-CH₂-或MG_b，即-CH₂-CH₂-CH(CH₃)-，

-A_ES具有式ES_a，即-CH(C₂H₅)-CH₂-或ES_b，即-CH₂-CH(C₂H₅)-；并且其中R¹和R²，彼此相同或不同，独立地选自由C₁-C₂₀烷基、C₆-C₂₀芳基组成的组；

-R³、R⁴、R⁵和R⁶，彼此相同或不同并且在每次出现时，选自由以下各项组成的组：C₁-C₂₀烷基、C₆-C₂₀芳基，所有所述基团不含取代基或包含一个或多于一个取代基，没有杂原子或具有一个或多于一个杂原子，以及包含(1)R³和R⁴或者R⁵和R⁶以及(2)R³和R⁴或者R⁵和R⁶所结合的氮原子二者的环状部分，所述环状部分不含杂原子或包含一个或多于一个杂原子，该杂原子是氧原子或附加的氮原子，

并且该溶液还包含或不含二甲亚砜(DMSO)；

(ii)将所述溶液(SP)加工为薄膜；

(iii)将所述薄膜浸入非溶剂浴中。