[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201380069317.4 | 申请日： | 2013-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN104885010B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 大桥智也;木村茂雄;绪方裕斗 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 黄媛;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)或式(1c)所示的结构单元、和下述式(1b)所示的结构单元的聚合物，以及含有超过50质量％的丙二醇单甲基醚的溶剂，
所述聚合物中所述式(1a)或式(1c)所示的结构单元与式(1b)所示的结构单元交替地排列，
式(1a)和式(1b)中，Q表示亚苯基或亚萘基，m表示1或2，n各自独立地表示0或1。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物具有作为所述式(1a)所示的结构单元的下述式(1a’)所示的结构单元、以及作为所述式(1b)所示的结构单元的下述式(1b’)所示的结构单元和下述式(1b”)所示的结构单元，所述聚合物中所述式(1a’)所示的结构单元与式(1b’)或式(1b”)所示的结构单元交替地排列，
式(1b’)和式(1b”)中，n各自独立地表示0或1。
3.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，当所述溶剂中的丙二醇单甲基醚的含量小于100质量％时，该溶剂的残余成分由不与丙二醇单甲基醚发生层分离而能够混合的溶剂构成。
4.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述抗蚀剂下层膜形成用组合物进一步包含交联性化合物。
5.根据权利要求4所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其进一步包含交联催化剂。
6.根据权利要求1或2所述的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其进一步包含表面活性剂。
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