[发明专利]能量敏感树脂组合物有效

专利信息
申请号: 201380068780.7 申请日: 2013-12-25
公开(公告)号: CN104885009B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 野田国宏;千坂博树;盐田大;染谷和也 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;C08K5/33;C08K5/3445;C08L79/08;G03F7/004;H01L21/027;C07C323/47;C07D209/86;C07D233/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 能量 敏感 树脂 组合
【权利要求书】:

1.一种能量敏感树脂组合物,其含有:

使四羧酸二酐与二胺反应而得的聚酰胺酸、

溶剂、和

通过光和热中的至少一者的作用进行分解而产生碱和酸中的至少一者的化合物(A),

所述化合物(A)包含通过光和热中的至少一者的作用进行分解而产生咪唑化合物的化合物(A-1)、和肟酯化合物(A-2),

所述化合物(A-1)包含下述式(5)所表示的化合物或下述式(6)所表示的化合物,

式中,R1、R2和R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亚硝基、磺酸根基(-SO3-)、膦基、氧膦基、磷酸基或有机基团;R4和R5分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基(-SO3H)、磺酸根基(-SO3-)、膦基、氧膦基、膦酰基、磷酸基或有机基团,R6、R7、R8和R9分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亚硝基、亚磺基、磺基(-SO3H)、磺酸根基(-SO3-)、膦基、氧膦基、膦酰基、磷酸基、氨基、铵基或有机基团,其中,R6和R7不为羟基;R11表示氢原子或有机基团;就R6、R7、R8、和R9而言,可以它们的2个以上键合而形成环状结构,也可以包含杂原子;

式中,R1、R2、和R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、巯基、甲硅烷基、硅醇基、硝基、亚硝基、膦基、磺酸根基(-SO3-)、氧膦基、磷酸基、或有机基团;R12表示可以被取代的烃基,

所述有机基团各自独立地选自烷基、烯基、环烷基、环烯基、芳基、和芳烷基,所述有机基团可以包含选自氧原子、氮原子、和硅原子中的至少一种杂原子。

2.根据权利要求1所述的能量敏感树脂组合物,其中,

所述溶剂包含N,N,N’,N’-四甲基脲。

3.根据权利要求1或2所述的能量敏感树脂组合物,其中,

所述化合物(A)是在120℃~180℃分解而产生碱的化合物。

4.根据权利要求1或2所述的能量敏感树脂组合物,其中,

所述化合物(A)是至少通过光的作用进行分解而产生碱和酸中的至少一者的化合物。

5.一种聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体的制造方法,其包括:

形成包含权利要求1~4中任1项所述的能量敏感树脂组合物的涂膜或成形体的形成工序、和

通过将所述涂膜或成形体曝光或加热而将所述涂膜或成形体中的化合物(A)分解的分解工序。

6.一种图案形成方法,其包括:

形成包含权利要求4所述的能量敏感树脂组合物的涂膜或成形体的形成工序、

将所述涂膜或成形体选择性曝光的曝光工序、

将曝光后的所述涂膜或成形体显影的显影工序、和

将显影后的所述涂膜或成形体加热的加热工序。

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