[发明专利]光学物品、用于制造光学物品的模具和模具的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学物品、用于制造光学物品的模具和模具的制造方法，尤其涉及微细凹凸转印用模具的制造方法以及该模具、使用该模具制作的防反射薄膜。

背景技术

作为在光学物品表面形成微细凹凸结构的方法，是如下进行的方法：在辊状模子(模具)周围配置长条状的基材，向辊状模子与基材之间填充活性能量射线固化性树脂组合物，透过基材对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线使其固化，将固化树脂层和基材从辊状模子剥离，连续制造成形体。

如此连续制造的成形体有时根据使用的制品规格而被切断或裁切加工成规定的形状。但是，所制造的成形体有时包含不满足要求特性的缺陷部位。为了避免这样的缺陷部位而进行切断或裁切加工成规定的形状，通常对成形体实施标记，从而可以容易地识别/去除缺陷部位。

作为在成形体上标记缺陷部位等的方法有：在薄膜上直接标记的方法；和在模子(模具)上形成标记，将其转印至成形体来进行标记的方法。

专利文献1公开了可以在片状制品的缺陷部位直接用笔实施标记的缺陷标记装置。另外，专利文献2公开了使在片状制品的缺陷部分的附近的、该缺陷部分的宽度方向的两端带有标记用的伤痕的缺陷标记方法。

另外，为了确定转印到成形体上的缺陷的位置与模具上的哪个位置相当而进行如下方法：预先使辊状模子的周边部位带有伤痕来实施标记，通过缺陷部位与标记的位置比较来确定模具上的缺陷部位。专利文献3公开了对模子的端部实施标记，在薄膜上转印周期与模子的外周对应的标记的方法，专利文献4和5公开了制造的板、薄膜的检查方法。

现有专利文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-304295号公报

专利文献2：日本特开2002-303580号公报

专利文献3：日本特开2011-220967号公报

专利文献4：日本特开2011-226957号公报

专利文献5：日本特开2012-26863号公报

发明内容

发明要解决的问题

近年，随着微细加工技术的进步，可以对成形体表面赋予纳米级的微细凹凸结构。纳米级的微细凹凸结构可以发挥例如称作蛾眼效果的防反射功能、称作荷叶效应的拒水功能这样来源于结构的功能，因此积极谋求纳米级的微细凹凸结构的工业上的利用。

使用赋予纳米级的微细凹凸结构的辊状模子连续制造的成形体有时根据使用的制品规格而被切断或裁切加工成规定的形状，因此优选对成形体实施标记，可以容易地识别/去除缺陷部位。

但是，本发明人等进行了研究，结果发现，表面赋予了微细凹凸结构的成形体具有称作荷叶效应的拒水功能等，因此难以像专利文献1公开的那样用笔标记、另外有时标记容易消失。另外，作为实施标记的后续工序，在对成形体进行化学试剂处理等的情况下，有时标记渗出消失。

另外，上述专利文献2记载的缺陷标记法是使薄膜带有伤痕而非用墨标记的方法。若是这样的方法，则虽然在后续工序中标记不消失，但由于使薄膜带伤痕时形成了与纳米级的微细凹凸结构相比非常大的凹凸，因此存在如下等问题：将薄膜卷取成辊状时，有时伤痕转印到他处，有时与伤痕的部分重合地卷取的部分的微细凹凸结构由于伤痕引起变形。

另外发现，专利文献3记载的那样使模子带有伤痕的方法中，在将成形体卷取成辊状时，与标记部分重合的位置产生瘪痕那样的缺陷。若利用专利文献3记载的那样的使模子带有伤痕的方法，则在成形体上形成与伤痕对应的凸部。如此形成的凸部与表面形成的纳米级的微细凹凸结构相比非常大。可知将这样的具有凸部的成形体进行卷取时，在与该凸部重合的部分形成的微细凹凸结构变形，进而产生缺陷。

进而明确，表面形成有纳米级的微细凹凸结构的成形体，尤其是防反射性能、透明性优异，因此上述瘪痕这样的缺陷容易被察觉、制品的成品率大幅降低。

为了防止这样的缺陷产生，认为带有小于纳米级的微细凹凸结构的伤痕即可，但难以简便地制成这样的伤痕、另外也难以用检查机器检出制成的伤痕。

进一步，将成形体卷取成辊状，在微小的伤痕上重叠多层成形体时，有时产生卷褶，有时产生在卷褶的部分形成的纳米级的微细凹凸结构变形等问题。

用于解决问题的方案

本发明的发明人深入研究，结果发现，容易地制造在卷取薄膜时不产生瘪痕地实施了标记的微细凹凸转印用模子(模具)的方法，从而完成本发明。