[发明专利]检查装置、检查方法、曝光系统及曝光方法、以及元件制造方法

权利要求书

1.一种检查装置，判定图案的加工条件，具备：

载台，可保持表面形成有图案的基板；

照明部，以偏振光照明该基板的表面；

检测部，接收从该基板表面射出的光，以检测规定该光的偏振的状态的条件；

存储部，储存用以判定检查对象基板表面形成的检查对象图案的该加工条件的装置条件，该装置条件是依据规定以已知该加工条件形成有图案的基板射出的光的该偏振状态的条件；以及

检查部，根据规定以该装置条件从该检查对象基板表面射出的光的该偏振的状态的条件，判定该检查对象图案的该加工条件。

2.如权利要求1所述的检查装置，其中，规定该偏振的状态的条件包含第1规定条件及第2规定条件；

该装置条件包含依据该第1规定条件的第1装置条件、与依据该第2规定条件的第2装置条件。

3.如权利要求2所述的检查装置，其中，该加工条件包含第1加工条件与第2加工条件；

该检查部，根据以该第1装置条件从该检查对象基板表面射出的光的该第1规定条件，判定该检查对象图案的该第1加工条件，并根据以该第2装置条件从该检查对象基板表面射出的光的该第2规定条件，判定该检查对象图案的该第2加工条件。

4.如权利要求1所述的检查装置，其中，规定该偏振的状态的条件包含第1规定条件及第2规定条件；

该装置条件，根据使用从以已知的该加工条件形成有图案的基板射出的光的该第1规定条件与该第2规定条件的运算式算出的结果的条件；

该检查部，包含根据使用所检测的该第1规定条件与该第2规定条件以该运算式算出的结果，判定该检查对象图案的该加工条件的步骤。

5.如权利要求1至4中任一项所述的检查装置，其中，该加工条件包含第1加工条件及第2加工条件；

该装置条件，规定从以组合已知的该第1加工条件及已知的该第2加工条件的加工条件形成有图案的基板射出的光的该偏振的状态的条件的变化，大于相对该第1加工条件及该第2加工条件的变化而另一方的加工条件变化时的条件。

6.如权利要求1至4中任一项所述的检查装置，其中，该检查部对以已知的该加工条件于表面形成有图案的基板以偏振光加以照明，根据从该基板表面射出的光检测出的用以规定该光的偏振的状态的条件，求出该检查条件。

7.如权利要求1至6中任一项所述的检查装置，其中，该检测部作为规定该光的偏振的状态的条件，检查斯托克斯参数及琼斯向量中的至少一方。

8.如权利要求1至7中任一项所述的检查装置，其中，该装置条件包含该照明部的照明条件、该检测部的检测条件、与该载台的姿势条件中的至少一条件。

9.如权利要求8所述的检查装置，其中，该照明条件包含射入该基板表面的偏振光的入射角、射入该基板表面的偏振光的波长、与射入该基板表面的偏振光的偏振方向中的至少一条件。

10.如权利要求8所述的检查装置，其中，该检测条件包含以该检测部受光的从该基板表面射出的光的受光角、与以该检测部受光的从该基板表面射出的光的偏振方向中的至少一条件。

11.如权利要求8所述的检查装置，其中，该姿势条件包含形成在该载台所保持的基板的图案的重复方向的方位、与该载台的倾斜角度中的至少一条件。

12.如权利要求1至11中任一项所述的检查装置，其中，该照明部对该基板的表面照射直线偏振光。

13.如权利要求1至12中任一项所述的检查装置，其中，该检测部接收从该基板表面正反射的光，以检测规定该光的该偏振的状态的条件。

14.如权利要求1至13中任一项所述的检查装置，其中，形成在该检查对象基板表面的该检查对象的图案是经由包含以曝光装置进行曝光的微影步骤而形成；

该检查装置判定的该加工条件，包含于该曝光装置的曝光的曝光量及焦点状态中的至少一方。

15.如权利要求1至14中任一项所述的检查装置，其中，该照明部以该偏振光一次照明该基板表面的全面；

该检测部具有拍摄该基板的表面全面的像的摄影元件。